公开(公告)号：CN114364456A

公开(公告)日：2022-04-15

申请号：CN202180005088.4

申请日：2021-07-01

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 宋宗勋 ,  李政锡 ,  李洪旻 ,  黄文燮 ,  陆炅奭 ,  宣旻浩

IPC: B01J19/00 ,  B01J4/00 ,  B08B9/093 ,  C07C2/08 ,  C07C11/02

Abstract: 本公开涉及一种用于制备低聚物的装置，包括：反应器，所述反应器被供应有用于进行低聚反应的单体流和溶剂流；产物排出管线，所述产物排出管线设置在所述反应器的侧面的下部；清洗液供应管线，所述清洗液供应管线与所述产物排出管线的第一点连接；以及清洗液排出管线，所述清洗液排出管线从所述产物排出管线的第二点伸出，其中，所述产物排出管线包括将所述产物排出管线分支为两条以上的管线的分支点和将各条分支的管线接合的接合点，并且所述产物排出管线包括在分支的所述两条以上的管线中的每一条管线中设置的压力控制装置。