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公开(公告)号:CN114555223A
公开(公告)日:2022-05-27
申请号:CN202180005012.1
申请日:2021-07-09
Applicant: 株式会社LG化学
IPC: B01J19/00 , B01J10/00 , C07C2/32 , C07C11/107 , C07C11/02
Abstract: 本发明涉及一种用于制备低聚物的设备,更具体地,涉及一种用于制备低聚物的设备,包括:反应器,该反应器包括在下部设置有第一气体反应物入口的气体区域,和在所述气体区域上方包括与气体反应物接触的反应介质的反应区域;第二气体反应物入口和第三气体反应物入口,所述第二气体反应物入口设置在所述气体区域中的反应器内壁上,所述第三气体反应物入口设置在面对所述第二气体反应物入口的反应器内壁上;以及第一注射喷嘴和第二注射喷嘴,所述第一注射喷嘴与所述第二气体反应物入口连接,所述第二注射喷嘴与所述第三气体反应物入口连接。
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公开(公告)号:CN114728250B
公开(公告)日:2024-07-12
申请号:CN202180006118.3
申请日:2021-08-12
Applicant: 株式会社LG化学
Abstract: 本发明涉及一种用于制备低聚物的设备,包括:反应器,接收单体流并进行低聚反应以制备反应产物;产物排出管线,所述产物排出管线用于传输从反应器排出的反应产物流;以及气泡捕集器,所述气泡捕集器设置在产物排出管线的任意区域中以去除反应产物流中包含的气泡。
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公开(公告)号:CN114787111A
公开(公告)日:2022-07-22
申请号:CN202180007053.4
申请日:2021-09-06
Applicant: 株式会社LG化学
IPC: C07C7/08 , C07C11/107
Abstract: 提供一种低聚物的制备方法,该方法包括以下步骤:将单体流和溶剂流供应到反应器以进行齐聚反应,从而制备反应产物;将反应器的排出流供应到分离装置,将包含未反应单体的分离装置的上部排出流供应到反应器,并且将分离装置的下部排出流供应到沉淀池;使聚合物在沉淀池中沉淀以去除聚合物,并且将去除了聚合物的分离装置的下部排出流供应到高沸点分离塔;去除高沸点分离塔的下部排出流中的高沸点物质,并且将包含低聚物的高沸点分离塔的上部排出流供应到溶剂分离塔;以及在溶剂分离塔中分离溶剂和低聚物。
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公开(公告)号:CN115135626B
公开(公告)日:2024-05-10
申请号:CN202280002727.6
申请日:2022-01-10
Applicant: 株式会社LG化学
IPC: C07C2/08 , C07C7/09 , C07C7/152 , C07C11/107
Abstract: 本发明提供一种制备低聚物的方法,其包括:将单体流和溶剂流供应至反应器以进行低聚反应来制备反应产物;将包含所述反应产物的来自所述反应器的排出流供应至分离装置,以及将来自所述分离装置的下部排出流供应至沉降罐;向所述沉降罐中加入有机絮凝剂以沉降和除去聚合物,以及将除去所述聚合物的来自所述分离装置的下部排出流供应至高沸点分离塔;以及在所述高沸点分离塔中从下部排出流除去高沸点物质,以及将包含低聚物的上部排出流供应至溶剂分离塔。
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公开(公告)号:CN114787111B
公开(公告)日:2024-04-26
申请号:CN202180007053.4
申请日:2021-09-06
Applicant: 株式会社LG化学
IPC: C07C7/08 , C07C11/107
Abstract: 提供一种低聚物的制备方法,该方法包括以下步骤:将单体流和溶剂流供应到反应器以进行齐聚反应,从而制备反应产物;将反应器的排出流供应到分离装置,将包含未反应单体的分离装置的上部排出流供应到反应器,并且将分离装置的下部排出流供应到沉淀池;使聚合物在沉淀池中沉淀以去除聚合物,并且将去除了聚合物的分离装置的下部排出流供应到高沸点分离塔;去除高沸点分离塔的下部排出流中的高沸点物质,并且将包含低聚物的高沸点分离塔的上部排出流供应到溶剂分离塔;以及在溶剂分离塔中分离溶剂和低聚物。
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公开(公告)号:CN115135626A
公开(公告)日:2022-09-30
申请号:CN202280002727.6
申请日:2022-01-10
Applicant: 株式会社LG化学
IPC: C07C2/08 , C07C7/09 , C07C7/152 , C07C11/107
Abstract: 本发明提供一种制备低聚物的方法,其包括:将单体流和溶剂流供应至反应器以进行低聚反应来制备反应产物;将包含所述反应产物的来自所述反应器的排出流供应至分离装置,以及将来自所述分离装置的下部排出流供应至沉降罐;向所述沉降罐中加入有机絮凝剂以沉降和除去聚合物,以及将除去所述聚合物的来自所述分离装置的下部排出流供应至高沸点分离塔;以及在所述高沸点分离塔中从下部排出流除去高沸点物质,以及将包含低聚物的上部排出流供应至溶剂分离塔。
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