发光分析装置
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103562435B

    公开(公告)日:2014-07-30

    申请号:CN201280024650.9

    申请日:2012-05-22

    Abstract: 发光分析装置具备:作为第1光强度计算部的一例的等离子光强度计算部(120),通过将由分光计测器(200)计测的表示容器内的每个波长的光强度的分光光谱利用多项式近似,计算容器内的每个波长的光强度;作为第2光强度计算部的一例的分子光强度计算部(130),通过按每个波长从由上述分光计测器(200)计测的上述分光光谱所表示的光强度减去上述第1光强度计算部计算出的光强度,计算与分子或原子的亮线光谱对应的光强度;以及比计算部(140),使用第2光强度计算部计算出的光强度,计算第1分子的分子光谱或第1原子的原子光谱的峰值与第2分子的分子光谱或第2原子的原子光谱的峰值之比。

    发光分析装置
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103562435A

    公开(公告)日:2014-02-05

    申请号:CN201280024650.9

    申请日:2012-05-22

    Abstract: 发光分析装置具备:作为第1光强度计算部的一例的等离子光强度计算部(120),通过将由分光计测器(200)计测的表示容器内的每个波长的光强度的分光光谱利用多项式近似,计算容器内的每个波长的光强度;作为第2光强度计算部的一例的分子光强度计算部(130),通过按每个波长从由上述分光计测器(200)计测的上述分光光谱所表示的光强度减去上述第1光强度计算部计算出的光强度,计算与分子或原子的亮线光谱对应的光强度;以及比计算部(140),使用第2光强度计算部计算出的光强度,计算第1分子的分子光谱或第1原子的原子光谱的峰值与第2分子的分子光谱或第2原子的原子光谱的峰值之比。

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