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公开(公告)号:CN1747162A
公开(公告)日:2006-03-15
申请号:CN200510099909.8
申请日:2005-09-08
Applicant: 株式会社电装
CPC classification number: H01L23/4827 , H01L24/05 , H01L2224/04026 , H01L2924/01013 , H01L2924/01023 , H01L2924/01024 , H01L2924/01042 , H01L2924/014
Abstract: 一种半导体器件包括:半导体衬底(1、1p);基底部件(2);锡基焊料层(S);第一金属层(M);和第一合金层(T1)。依次经由第一金属层(M)、第一合金层(T1)和锡基焊料层(S),将半导体衬底(1、1p)接合到基底部件(2)上。第一合金层(T1)由第一金属层(M)中的第一金属和锡基焊料层(S)中的锡制成。第一金属层(M)由选自由钛、铝、铁、钼、铬、钒和铁-镍-铬合金构成的组中的至少一种材料制成。
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公开(公告)号:CN100452372C
公开(公告)日:2009-01-14
申请号:CN200510099909.8
申请日:2005-09-08
Applicant: 株式会社电装
CPC classification number: H01L23/4827 , H01L24/05 , H01L2224/04026 , H01L2924/01013 , H01L2924/01023 , H01L2924/01024 , H01L2924/01042 , H01L2924/014
Abstract: 一种半导体器件包括:半导体衬底(1、1p);基底部件(2);锡基焊料层(S);第一金属层(M);和第一合金层(T1)。依次经由第一金属层(M)、第一合金层(T1)和锡基焊料层(S),将半导体衬底(1、1p)接合到基底部件(2)上。第一合金层(T1)由第一金属层(M)中的第一金属和锡基焊料层(S)中的锡制成。第一金属层(M)由选自由钛、铝、铁、钼、铬、钒和铁-镍-铬合金构成的组中的至少一种材料制成。
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