公开(公告)号：CN1974134A

公开(公告)日：2007-06-06

申请号：CN200610172378.5

申请日：2006-08-30

Applicant: 株式会社电装

Inventor： 大冈泰仁 ,  加藤真一 ,  木村一成 ,  加藤滋也

IPC: B24C1/08 ,  B24C3/32 ,  B24C5/00

Abstract: 在用于通过料浆(7)对微孔进行加工的流体抛光方法中，在料浆流率达到目标过程中从缸筒(2a)供给料浆，直至流率增加到料浆供给流率的目标值。当流率达到目标流率时，缸筒停止并转换到另一缸筒(2b)，此后测量微孔操作流体流率。在随后实施的调量过程中，根据操作流体流率计算所需的加工时间并且通过另一缸筒(2b)在所需加工时间内执行抛光。随后另一缸筒停止并被转换，测量操作流体流率。这样，重复调量过程直至操作流体流率达到预定值。在每个过程中，料浆的供给不中断。

公开(公告)号：CN112970174A

公开(公告)日：2021-06-15

申请号：CN201980072765.7

申请日：2019-10-15

Applicant: 株式会社电装

Inventor： 高桥裕树 ,  岩濑和也 ,  大冈泰仁

IPC: H02K5/18 ,  H02K5/20 ,  B60K7/00

Abstract: 旋转电机(10)包括：励磁元件(40)，该励磁元件具有磁体部(42)，该磁体部包含极性在周向上交替的多个磁极；电枢(50)，该电枢具有多相的电枢绕组(51)；以及罩构件(30、63)，该罩构件覆盖所述励磁元件和所述电枢。在罩构件的内表面中的与电枢绕组的线圈边端部(54、55)相对的第一相对面进行提高辐射率的表面加工。