公开(公告)号：CN104040023A

公开(公告)日：2014-09-10

申请号：CN201380005648.1

申请日：2013-01-15

Applicant: 株式会社爱发科

Inventor： 杨一新 ,  三桥善之 ,  饭岛正行 ,  若松贞次 ,  斋藤和彦 ,  藤井智晴 ,  吉元刚 ,  细矢东豪 ,  广野贵启 ,  林信博 ,  角谷宣昭 ,  砂川直纪 ,  多田勋 ,  平野裕之

IPC: C23C16/44 ,  C23C14/00 ,  C23C14/12 ,  C23C14/56 ,  C23C16/455 ,  C23C16/54

CPC classification number: C23C16/52 ,  B05D1/34 ,  B05D1/62 ,  C23C14/12 ,  C23C14/562 ,  C23C16/4405

Abstract: 提供对薄层状的成膜对象物体持续成膜，并且能够在使成膜空间与清洗气体气氛分离的状态下清洗放出装置的成膜装置。具有：清洗室(20a～20d)，其构成为若打开闸门(22a～22d)则连接于成膜空间(16)，若关闭闸门(22a～22d)则与成膜空间(16)分离，并且对内部空间放出清洗气体；移动单元(28a～28d)，其使放出装置(13a～13d)在清洗室(20a～20d)内的清洗位置与和清洗位置相比距圆筒部件(12)近的成膜位置之间移动；以及控制装置(18)，其使放出装置(13a～13d)移动至成膜位置时放出原料气体，在使其移动至清洗位置时关闭闸门(22a～22d)并使清洗室(20a～20d)内充满清洗气体。

公开(公告)号：CN104040023B

公开(公告)日：2016-04-13

申请号：CN201380005648.1

申请日：2013-01-15

Applicant: 株式会社爱发科

Inventor： 杨一新 ,  三桥善之 ,  饭岛正行 ,  若松贞次 ,  斋藤和彦 ,  藤井智晴 ,  吉元刚 ,  细矢东豪 ,  广野贵启 ,  林信博 ,  角谷宣昭 ,  砂川直纪 ,  多田勋 ,  平野裕之

IPC: C23C16/44 ,  C23C14/00 ,  C23C14/12 ,  C23C14/56 ,  C23C16/455 ,  C23C16/54

CPC classification number: C23C16/52 ,  B05D1/34 ,  B05D1/62 ,  C23C14/12 ,  C23C14/562 ,  C23C16/4405

Abstract: 提供对薄层状的成膜对象物体持续成膜，并且能够在使成膜空间与清洗气体气氛分离的状态下清洗放出装置的成膜装置。具有：清洗室(20a～20d)，其构成为若打开闸门(22a～22d)则连接于成膜空间(16)，若关闭闸门(22a～22d)则与成膜空间(16)分离，并且对内部空间放出清洗气体；移动单元(28a～28d)，其使放出装置(13a～13d)在清洗室(20a～20d)内的清洗位置与和清洗位置相比距圆筒部件(12)近的成膜位置之间移动；以及控制装置(18)，其使放出装置(13a～13d)移动至成膜位置时放出原料气体，在使其移动至清洗位置时关闭闸门(22a～22d)并使清洗室(20a～20d)内充满清洗气体。