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公开(公告)号：CN105000384B
公开(公告)日：2019-01-08
申请号：CN201510192376.1
申请日：2015-04-22
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: B65G49/06 , H01L21/677 , H01L21/683 , H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种保持装置和真空处理装置。不向真空环境中排出粘附衬垫的排出气体地对保持对象物进行真空处理。在保持装置（11）的真空容器（15）的内部设置粘附衬垫（17），在将保持对象物（5）粘附保持的状态下，向配置在真空容器（15）的边缘上的接触部（18）按压，使真空容器（15）的内部空间（25）从外部空间（26）分离。预先将真空容器（15）的内部空间（25）从设置在真空容器（15）上的排气孔（14）真空排气，当进行真空处理时，使排气孔（14）成为气体不穿过的状态，使得来自粘附衬垫（17）的排出气体不排出到对保持对象物（5）进行真空处理的环境内。
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公开(公告)号：CN108866492A
公开(公告)日：2018-11-23
申请号：CN201710911897.7
申请日：2017-09-29
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: C23C14/34
Abstract: 本发明提供一种即便在被加热到低于粘接体的耐热温度的规定温度的气氛下使用，也能防止基板从粘接体脱离的粘接式保持件。本发明是具有底板(3)和包括突出设置在底板(3)的一面上的至少一个弹性体的粘接体(4)。粘接体的厚度设置为当在保持面与被保持体抵接的状态下向突出设置方向施加了按压力时，该保持面整面与被保持体呈面接触，该保持面具有0.785～1的范围内的圆度，保持面的面积在厚度设置为t时，大于π(t/6)2，且小于等于π(t/2+1/2)2。
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公开(公告)号：CN105000384A
公开(公告)日：2015-10-28
申请号：CN201510192376.1
申请日：2015-04-22
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: B65G49/06 , H01L21/677 , H01L21/683 , H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种保持装置和真空处理装置。不向真空环境中排出粘附衬垫的排出气体地对保持对象物进行真空处理。在保持装置（11）的真空容器（15）的内部设置粘附衬垫（17），在将保持对象物（5）粘附保持的状态下，向配置在真空容器（15）的边缘上的接触部（18）按压，使真空容器（15）的内部空间（25）从外部空间（26）分离。预先将真空容器（15）的内部空间（25）从设置在真空容器（15）上的排气孔（14）真空排气，当进行真空处理时，使排气孔（14）成为气体不穿过的状态，使得来自粘附衬垫（17）的排出气体不排出到对保持对象物（5）进行真空处理的环境内。
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公开(公告)号：CN115199535A
公开(公告)日：2022-10-18
申请号：CN202210236666.1
申请日：2022-03-11
Applicant: 株式会社爱发科
Inventor： 岳良太
Abstract: 本发明提供一种可靠性高的轴密封结构体、真空泵。在轴密封结构体中，转子轴具有第一端部、与上述第一端部处于相反侧的第二端部、与上述第一端部和上述第二端部相连的外周面、以及设置在内部的通道，上述转子轴能够以中心轴为中心旋转。旋转轴密封件在上述第一端部与上述第二端部之间，绕上述转子轴的上述外周面与上述转子轴同心地设置。过滤部在上述第一端部侧附加设置在上述转子轴，抑制浸入物向上述通道浸入，能够与上述转子轴一同以上述中心轴为中心旋转。通过由上述过滤部旋转而产生的上述过滤部的离心力，从上述过滤部的抑制侧浸入的上述浸入物向与上述浸入物浸入的方向相反的方向移动。
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公开(公告)号：CN108866492B
公开(公告)日：2021-06-25
申请号：CN201710911897.7
申请日：2017-09-29
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: C23C14/34
Abstract: 本发明提供一种即便在被加热到低于粘接体的耐热温度的规定温度的气氛下使用，也能防止基板从粘接体脱离的粘接式保持件。本发明是具有底板(3)和包括突出设置在底板(3)的一面上的至少一个弹性体的粘接体(4)。粘接体的厚度设置为当在保持面与被保持体抵接的状态下向突出设置方向施加了按压力时，该保持面整面与被保持体呈面接触，该保持面具有0.785～1的范围内的圆度，保持面的面积在厚度设置为t时，大于π(t/6)2，且小于等于π(t/2+1/2)2。
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