公开(公告)号：CN1075126C

公开(公告)日：2001-11-21

申请号：CN98105376.9

申请日：1998-02-26

Applicant: 株式会社村田制作所

Inventor： 加纳修 ,  吉田育史 ,  小木曾美文

IPC: C23C18/30 ,  C23C18/16 ,  H05K3/18

CPC classification number: C23C18/1865 ,  C23C18/1608 ,  C23C18/1612 ,  C23C18/1868 ,  C23C18/1879 ,  H05K3/185

Abstract: 用于化学沉积的亲水性活化催化溶液是乳酸盐、钯和碱性介质的混合物。所述溶液在经过短时间辐照后能沉积钯催化剂，并能用水或类似物更有效地除去不需要的感光膜。所述乳酸盐最好包括乳酸铜和/或乳酸锌，所述钯盐最好是氯化钯。

公开(公告)号：CN1384222A

公开(公告)日：2002-12-11

申请号：CN02118658.8

申请日：2002-04-24

Applicant: 株式会社村田制作所

Inventor： 加纳修 ,  吉田健二

IPC: C23C18/38 ,  H01P11/00

CPC classification number: H01G4/008 ,  C23C18/405 ,  C23C18/48 ,  H01B1/026

Abstract: 本发明提供一种无电解铜电镀液,该溶液能保证铜镀膜对粗糙度低的平坦陶瓷表面具有优异的粘合性,且能形成高频导电率优良、Q值高的高频电子元件。还提供一种用这种无电解铜电镀液形成的高频电子元件。该无电解铜电镀液含有铜离子、镍离子、甲醛或其衍生物和酒石酸或酒石酸盐,镍与铜离子的克分子含量之比约为0.0001～0.015。

公开(公告)号：CN1197125A

公开(公告)日：1998-10-28

申请号：CN98105376.9

申请日：1998-02-26

Applicant: 株式会社村田制作所

Inventor： 加纳修 ,  吉田育史 ,  小木曾美文

IPC: C23C18/31 ,  H05K3/18

CPC classification number: C23C18/1865 ,  C23C18/1608 ,  C23C18/1612 ,  C23C18/1868 ,  C23C18/1879 ,  H05K3/185

Abstract: 用于化学沉积的亲水性活化催化溶液是乳酸盐、钯和碱性介质的混合物。所述溶液在经过短时间辐照后能沉积钯催化剂,并能用水或类似物更有效地除去不需要的感光膜。所述乳酸盐最好包括乳酸铜和/或乳酸锌,所述钯盐最好是氯化钯。