公开(公告)号：CN106537552B

公开(公告)日：2018-11-06

申请号：CN201680001828.6

申请日：2016-03-04

Applicant: 株式会社日立高新技术

Inventor： 薮修平 ,  古贺直人 ,  赤津光男 ,  高平功 ,  富田真一 ,  能田弘行 ,  增田蓝

IPC: H01J37/16 ,  H01J37/248

Abstract: 本发明的目的在于提供小型、高性能且容易搬送的带电粒子射线装置。本发明所涉及的带电粒子射线装置具备可装卸的主体单元和辅助单元，所述主体单元收容与带电粒子射线相关的功能部，所述辅助单元收容电源部(参照图1)。

公开(公告)号：CN108463869A

公开(公告)日：2018-08-28

申请号：CN201680078107.5

申请日：2016-01-29

Applicant: 株式会社日立高新技术

Inventor： 薮修平

IPC: H01J37/04 ,  H01J37/09 ,  H01J37/147 ,  H01J37/21

Abstract: 本发明的目的在于在改变了光学条件的情况下也抑制光轴偏移，在本发明的一个实施方式中，具有：带电粒子源(1)，其释放出照射到样本(14)的带电粒子束(4)；聚焦透镜系统，其包括至少一个将带电粒子束(4)以预定的缩小率聚焦的聚焦透镜(7、8)；偏转器(5、6)，其位于上述聚焦透镜系统中最下游的聚焦透镜(8)与带电粒子源(1)之间，使带电粒子源(1)的虚拟位置移动；以及控制单元(20、21、22)，其控制偏转器(5、6)以及上述聚焦透镜系统，控制单元(20、21、22)控制偏转器(5、6)使带电粒子源(1)的虚拟位置移动到抑制由上述聚焦透镜系统的缩小率的变化引起的、上述聚焦透镜系统的下游的带电粒子束(4)的中心轨道的偏移的位置(36)。

公开(公告)号：CN111354614B

公开(公告)日：2023-07-18

申请号：CN202010170557.5

申请日：2016-01-29

Applicant: 株式会社日立高新技术

Inventor： 薮修平

IPC: H01J37/12 ,  H01J37/141 ,  H01J37/147 ,  H01J37/21 ,  H01J37/26 ,  H01J37/28

Abstract: 本发明的目的在于在改变了光学条件的情况下也抑制光轴偏移，在本发明的一个实施方式中，具有：带电粒子源(1)，其释放出照射到样本(14)的带电粒子束(4)；聚焦透镜系统，其包括至少一个将带电粒子束(4)以预定的缩小率聚焦的聚焦透镜(7、8)；偏转器(5、6)，其位于上述聚焦透镜系统中最下游的聚焦透镜(8)与带电粒子源(1)之间，使带电粒子源(1)的虚拟位置移动；以及控制单元(20、21、22)，其控制偏转器(5、6)以及上述聚焦透镜系统，控制单元(20、21、22)控制偏转器(5、6)使带电粒子源(1)的虚拟位置移动到抑制由上述聚焦透镜系统的缩小率的变化引起的、上述聚焦透镜系统的下游的带电粒子束(4)的中心轨道的偏移的位置(36)。

公开(公告)号：CN111354614A

公开(公告)日：2020-06-30

申请号：CN202010170557.5

申请日：2016-01-29

Applicant: 株式会社日立高新技术

Inventor： 薮修平

IPC: H01J37/12 ,  H01J37/141 ,  H01J37/147 ,  H01J37/21 ,  H01J37/26 ,  H01J37/28

Abstract: 本发明的目的在于在改变了光学条件的情况下也抑制光轴偏移，在本发明的一个实施方式中，具有：带电粒子源(1)，其释放出照射到样本(14)的带电粒子束(4)；聚焦透镜系统，其包括至少一个将带电粒子束(4)以预定的缩小率聚焦的聚焦透镜(7、8)；偏转器(5、6)，其位于上述聚焦透镜系统中最下游的聚焦透镜(8)与带电粒子源(1)之间，使带电粒子源(1)的虚拟位置移动；以及控制单元(20、21、22)，其控制偏转器(5、6)以及上述聚焦透镜系统，控制单元(20、21、22)控制偏转器(5、6)使带电粒子源(1)的虚拟位置移动到抑制由上述聚焦透镜系统的缩小率的变化引起的、上述聚焦透镜系统的下游的带电粒子束(4)的中心轨道的偏移的位置(36)。

公开(公告)号：CN108463869B

公开(公告)日：2020-04-24

申请号：CN201680078107.5

申请日：2016-01-29

Applicant: 株式会社日立高新技术

Inventor： 薮修平

IPC: H01J37/04 ,  H01J37/09 ,  H01J37/147 ,  H01J37/21

Abstract: 本发明的目的在于在改变了光学条件的情况下也抑制光轴偏移，在本发明的一个实施方式中，具有：带电粒子源(1)，其释放出照射到样本(14)的带电粒子束(4)；聚焦透镜系统，其包括至少一个将带电粒子束(4)以预定的缩小率聚焦的聚焦透镜(7、8)；偏转器(5、6)，其位于上述聚焦透镜系统中最下游的聚焦透镜(8)与带电粒子源(1)之间，使带电粒子源(1)的虚拟位置移动；以及控制单元(20、21、22)，其控制偏转器(5、6)以及上述聚焦透镜系统，控制单元(20、21、22)控制偏转器(5、6)使带电粒子源(1)的虚拟位置移动到抑制由上述聚焦透镜系统的缩小率的变化引起的、上述聚焦透镜系统的下游的带电粒子束(4)的中心轨道的偏移的位置(36)。

公开(公告)号：CN106537552A

公开(公告)日：2017-03-22

申请号：CN201680001828.6

申请日：2016-03-04

Applicant: 株式会社日立高新技术

Inventor： 薮修平 ,  古贺直人 ,  赤津光男 ,  高平功 ,  富田真一 ,  能田弘行 ,  增田蓝

IPC: H01J37/16 ,  H01J37/248

CPC classification number: H01J37/16 ,  H01J37/248 ,  H01J37/26 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/2813

Abstract: 本发明的目的在于提供小型、高性能且容易搬送的带电粒子射线装置。本发明所涉及的带电粒子射线装置具备可装卸的主体单元和辅助单元，所述主体单元收容与带电粒子射线相关的功能部，所述辅助单元收容电源部(参照图1)。