液体处理装置
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101266414A

    公开(公告)日:2008-09-17

    申请号:CN200810085375.7

    申请日:2008-03-14

    Inventor: 福田浩

    Abstract: 本发明目的是不使用轧液辊和空气来抑制将处理液从供给处理液的装置的带出量。向基板(W)的表面(WS)供给显影液、进行表面处理的显影装置(20)具有输送棍(40)、喷洒器(50)以及缝隙喷嘴(60),输送棍(40)在显影装置(20)的内部将基板(W)向水平方向输送;喷洒器(50)向通过输送棍(40)输送的整个基板(W)上供给显影液;缝隙喷嘴(60)设置在显影装置(20)的搬出口(42)附近,通过相对基板(W)从斜上方向着基板(W)的输送方向的反方向喷射显影液,清除积存在基板(W)的表面(WS)上的积液。由于利用来自缝隙喷嘴(60)的显影液挤压显影液,因此不会产生干燥引起的不均匀,也无需进行维护作业。

    水晶振荡式膜厚监视器用传感器头

    公开(公告)号:CN103710666A

    公开(公告)日:2014-04-09

    申请号:CN201310338522.8

    申请日:2013-08-06

    Abstract: 本发明的课题是提供一种水晶振荡式膜厚监视器用传感器头,其能够长时间稳定地测定膜厚,能够延长有机EL制造装置的连续工作时间。作为解决本发明课题的手段涉及一种水晶振荡式膜厚监视器用传感器头,其特征在于,具有:检测来自被加热的坩锅的蒸发粒子的水晶振子;安装有该水晶振子的水晶振子保持架;覆盖该水晶振子保持架的金属制的盖;与该盖以热的方式连接的监视器本体;和在该监视器本体上安装的冷却构件,上述盖接近热源的部分采用不锈钢,与上述监视器本体接触的部分采用铝合金。

    蒸发源及蒸镀装置
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102676999A

    公开(公告)日:2012-09-19

    申请号:CN201210058800.X

    申请日:2012-03-08

    Abstract: 本发明提供一种蒸发源和蒸镀装置,其发明目的在于隔断坩埚的辐射热而且不在喷嘴产生堵塞,本发明的蒸发源(1)具有喷嘴(12)、反射器(6)以及罩构件(8),该喷嘴(12)按从对蒸镀材料(M)进行加热而使其蒸发的坩埚(5)突出的方式设置,朝基板(2)喷射蒸发了的蒸镀材料(M);该反射器(6)具有并列地配置的多个金属板(15),使得这些多个金属板(15)中的最接近基板(2)的金属板(15)设在比喷嘴(12)的喷嘴前端面(13)更接近基板(2)的位置;该罩构件(8)与构成反射器(6)的多个金属板(15)中的一部分一体地构成,将喷嘴(12)与反射器(6)之间闭塞。

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