公开(公告)号：CN1190482A

公开(公告)日：1998-08-12

申请号：CN96195310.1

申请日：1996-05-17

Applicant: 株式会社日立制作所

Inventor： 大川贵子 ,  日良康夫 ,  今山宽隆 ,  藤沢政泰 ,  铃木三郎 ,  户川卫星 ,  齐木教行 ,  铃木信男 ,  上利宏司 ,  赤松洁 ,  千叶拓

IPC: G11B5/60 ,  G11B21/21

CPC classification number: G11B5/6005 ,  Y10T29/49041

Abstract: 为了除去磁头滑触点刻蚀加工时产生的再附着物并形成微小的倒角,利用刻蚀加工在上浮面形成非直线形状的轨道,然后使用聚酯无纺布等研磨布进行研磨加工。由此,可以除去刻蚀加工时的再附着物,提高磁头上浮特性的可靠性。

公开(公告)号：CN1116353A

公开(公告)日：1996-02-07

申请号：CN94119365.9

申请日：1994-12-02

Applicant: 株式会社日立制作所

Inventor： 田坂健二 ,  薗部秀树 ,  名手和男 ,  三轮广明 ,  赤松洁 ,  狄原芳树 ,  齐木教行

IPC: G11B21/00

Abstract: 用光刻法在非磁性基材上按有多排字符状图案形成磁头元件，然后分别在形成所说磁头元件的所说表面上和所说非磁性基材的相对表面形成有机保护层，然后从非磁性基材上切下有一排所说磁性元件的滑触头块，以便有可能防止在随后为形成弯曲的滑触头导轨而采用的遮蔽和蚀刻步骤期间于非磁性基材的磁头元件表面和相对表面上出现污染、刮痕和碎屑等等。

公开(公告)号：CN1137486C

公开(公告)日：2004-02-04

申请号：CN94119365.9

申请日：1994-12-02

Applicant: 株式会社日立制作所

Inventor： 田坂健二 ,  薗部秀树 ,  名手和男 ,  三轮广明 ,  赤松洁 ,  狄原芳树 ,  齐木教行

IPC: G11B21/21 ,  G11B5/60

Abstract: 用光刻法在非磁性基材上按有多排字符状图案形成磁头元件，然后分别在形成所说磁头元件的所说表面上和所说非磁性基材的相对表面形成有机保护层，然后从非磁性基材上切下有一排所说磁性元件的滑触头块，以便有可能防止在随后为形成弯曲的滑触头导轨而采用的遮蔽和蚀刻步骤期间于非磁性基材的磁头元件表面和相对表面上出现污染、刮痕和碎屑等等。