公开(公告)号：CN1190482A

公开(公告)日：1998-08-12

申请号：CN96195310.1

申请日：1996-05-17

Applicant: 株式会社日立制作所

Inventor： 大川贵子 ,  日良康夫 ,  今山宽隆 ,  藤沢政泰 ,  铃木三郎 ,  户川卫星 ,  齐木教行 ,  铃木信男 ,  上利宏司 ,  赤松洁 ,  千叶拓

IPC: G11B5/60 ,  G11B21/21

CPC classification number: G11B5/6005 ,  Y10T29/49041

Abstract: 为了除去磁头滑触点刻蚀加工时产生的再附着物并形成微小的倒角,利用刻蚀加工在上浮面形成非直线形状的轨道,然后使用聚酯无纺布等研磨布进行研磨加工。由此,可以除去刻蚀加工时的再附着物,提高磁头上浮特性的可靠性。