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公开(公告)号:CN1046230A
公开(公告)日:1990-10-17
申请号:CN90101526.1
申请日:1990-03-20
Applicant: 株式会社日立制作所
IPC: G05B11/42
CPC classification number: G05B13/0275 , Y10S706/90
Abstract: 一种过程控制装置和控制系统,它观察在控制在控制回路中的过程的设定值与来自过程过程控制变量之间的偏移波形,使得工作参数根据基于波形的每半周的绝对值的所得的偏移,按照预定的调整规则调整工作参数。因此,如果过程受控变量受到扰动,则波形面积不会明显变化,结果工作参数可被正确调整,从而使过程受控变量迅速与设定点相一致。
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公开(公告)号:CN1072369C
公开(公告)日:2001-10-03
申请号:CN94104275.8
申请日:1994-03-11
Applicant: 株式会社日立制作所
IPC: G05B13/04
Abstract: 本发明涉及一种过程自适应控制设备及系统,用于控制采用一个能精确仿真电厂特性的模型的过程,自动调整参数,减少调整所需时间。根据延迟时间因子与基于物理公式的集总参数模型的组合,构成一个热电厂的每一个热交换器的模型,将给出的这些热交换器的模型综合进一个模型。用该模型预测极近将来的热电厂的动作并根据预测的结果确定电厂的控制输入。采用电厂的操作数据通过爬山算法调整模型的参数。还可以借助于神经网络系统和模糊外推法校正模型的参数。
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公开(公告)号:CN1057852C
公开(公告)日:2000-10-25
申请号:CN90101526.1
申请日:1990-03-20
Applicant: 株式会社日立制作所
CPC classification number: G05B13/0275 , Y10S706/90
Abstract: 一种过程控制装置和控制系统,它观察在控制在控制回路中的过程的设定值与来自过程过程控制变量之间的偏移波形,使得工作参数根据基于波形的每半周的绝对值的所得的偏移,按照预定的调整规则调整工作参数。因此,如果过程受控变量受到扰动,则波形面积不会明显变化,结果工作参数可被正确调整,从而使过程受控变量迅速与设定点相一致。
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