公开(公告)号：CN1026444C

公开(公告)日：1994-11-02

申请号：CN88101903

申请日：1988-04-02

Applicant: 株式会社日立制作所

Inventor： 齐藤忠良 ,  川上润三 ,  高桥进 ,  末广哲雄 ,  松本弘 ,  立花幸治

IPC: G05B13/02 ,  G05B11/42

Abstract: 一种PID控制器系统包括用PID控制作为一个被控对象设置的过程的PID控制器，和响应于PID控制器的操作变量和过程的控制变量以得到必须的性能指标，并根据性能指标，为把实际控制变量调整到控制指令值准备最佳控制参数的自动调整器，该最佳控制参数从自动调整器反馈到PID控制器。

公开(公告)号：CN1046230A

公开(公告)日：1990-10-17

申请号：CN90101526.1

申请日：1990-03-20

Applicant: 株式会社日立制作所

Inventor： 齐藤忠良 ,  立花幸治 ,  高桥进 ,  横川信幸 ,  野村政英 ,  松本弘 ,  下田诚 ,  官垣久典 ,  远山荣二

IPC: G05B11/42

CPC classification number: G05B13/0275 ,  Y10S706/90

Abstract: 一种过程控制装置和控制系统，它观察在控制在控制回路中的过程的设定值与来自过程过程控制变量之间的偏移波形，使得工作参数根据基于波形的每半周的绝对值的所得的偏移，按照预定的调整规则调整工作参数。因此，如果过程受控变量受到扰动，则波形面积不会明显变化，结果工作参数可被正确调整，从而使过程受控变量迅速与设定点相一致。

公开(公告)号：CN1057852C

公开(公告)日：2000-10-25

申请号：CN90101526.1

申请日：1990-03-20

Applicant: 株式会社日立制作所

Inventor： 齐藤忠良 ,  立花幸治 ,  高桥进 ,  横川信幸 ,  野村政英 ,  松本弘 ,  下田诚 ,  官垣久典 ,  远山荣二

IPC: G05B11/42 ,  G05B13/02

CPC classification number: G05B13/0275 ,  Y10S706/90

Abstract: 一种过程控制装置和控制系统，它观察在控制在控制回路中的过程的设定值与来自过程过程控制变量之间的偏移波形，使得工作参数根据基于波形的每半周的绝对值的所得的偏移，按照预定的调整规则调整工作参数。因此，如果过程受控变量受到扰动，则波形面积不会明显变化，结果工作参数可被正确调整，从而使过程受控变量迅速与设定点相一致。

公开(公告)号：CN1036278A

公开(公告)日：1989-10-11

申请号：CN88101903

申请日：1988-04-02

Applicant: 株式会社日立制作所

Inventor： 齐藤忠良 ,  川上润三 ,  高桥进 ,  末广哲雄 ,  松本弘 ,  立花幸治

IPC: G05B11/42

Abstract: 一种PID控制器系统包括用PID控制为被控对象设置的处理单元的PID控制器，和响应于PID控制器的操作变量和处理单元的控制变量以得到必须的性能指标，并根据性能指标，为把实际控制变量转换到控制指令值准备最佳控制参数的自动调整器，该最佳控制系数从自动调整器反馈到PID控制器。