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发明公开
表面波等离子体处理装置无效

公开(公告)号：CN1176486A

公开(公告)日：1998-03-18

申请号：CN97117927.1

申请日：1997-09-02

Applicant: 株式会社日立制作所

Inventor： 渡边成一 , 角屋诚浩 , 古濑宗雄 , 田村仁

IPC: H01L21/302 , H01L21/3065

CPC classification number: H01J37/32238 , H01J37/32192

Abstract: 提供微波的同轴通道(8)在形成部分处理室(1)的介质窗(2)上方垂直安置,以及传输微波的传导板(10)在介质窗(2)上方,同轴通道(8)外部环形面上放置。在以具有临界电子密度nc产生的等离子体表面之间可以形成微波传输通道,从而使得传导板(10)可以无反射地沿着介质窗(2)均匀地从中心向外部四周传输微波。结果,获得可以稳定、均匀地产生等离子体,进行具有很好的可重复性和均匀的等离子体处理的效果。

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