公开(公告)号：CN1336635A

公开(公告)日：2002-02-20

申请号：CN01111815.6

申请日：2001-03-20

Applicant: 株式会社日立制作所

Inventor： 伊藤显知 ,  添谷进

IPC: G11B5/33 ,  G11B11/105

CPC classification number: G11B5/3909 ,  B82Y10/00 ,  B82Y25/00 ,  G11B5/00 ,  G11B5/127 ,  G11B5/245 ,  G11B5/2452 ,  G11B5/3113 ,  G11B5/3116 ,  G11B5/3146 ,  G11B5/33 ,  G11B5/39 ,  G11B5/3919 ,  G11B13/045 ,  G11B2005/0002 ,  G11B2005/0005 ,  G11B2005/0008 ,  G11B2005/0021 ,  G11B2005/3996

Abstract: 在此提供一种磁性再现头和磁性记录头,其易于制造并且适合于通过狭窄的磁道尺寸记录和再现。磁性再现头由GMR或TMR磁性传感器以及用于把磁通量导入磁性传感器的磁导所构成,其中至少磁导的一部分由能够在不低于预定温度Tp的温度下允许磁通量通过,但是在低于Tp的温度下不允许磁通量通过的材料所构成。光线仅仅照射到一部分磁导上,使得被照射部位的温度升高到Tp或更高,从而允许磁通量仅仅通过被照射部位,因此在检测来自磁性记录介质的磁记录信息时,这大大地减小了磁性再现头的磁道宽度。

公开(公告)号：CN1409297A

公开(公告)日：2003-04-09

申请号：CN02152912.4

申请日：2002-07-17

Applicant: 株式会社日立制作所

Inventor： 星屋裕之 ,  添谷进 ,  目黑贤一

IPC: G11B5/39 ,  H01L43/08 ,  H01F10/14 ,  H01F10/16 ,  H01F10/30

CPC classification number: H01L43/10 ,  B82Y10/00 ,  B82Y25/00 ,  G01R33/093 ,  G11B5/3903 ,  G11B2005/3996 ,  H01F10/1936 ,  H01F10/324 ,  H01F10/3254 ,  H01F10/3272 ,  H01F10/3295

Abstract: 现有技术中用金属磁性膜制成的磁阻多层膜不能提供足够的再现输出能力。厚度为10nm或更薄的高极化率层做为与非磁性中间层界面相接触的富Fe的Fe－O层形成，再把所得到的层进行热处理形成铁磁Fe－O层的多层膜，从而获得有高磁阻的磁阻元件。