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公开(公告)号:CN101964195A
公开(公告)日:2011-02-02
申请号:CN201010234468.9
申请日:2010-07-20
Applicant: 株式会社日立制作所 , 富士电机电子技术株式会社 , 国立大学法人东北大学
IPC: G11B5/65
CPC classification number: G11B5/656 , G11B5/65 , G11B5/7315 , G11B5/7325
Abstract: 本发明提供一种磁记录介质,所记录的磁信号的稳定性优异并且可进行基于热辅助磁记录方式的磁信号记录。将磁记录层(50)应用于磁记录介质(1),所述磁记录层(50)包含Pt含量为44at%以上55at%以下并且Ni/(Co+Ni)的原子含量比为0.64以上0.8以下的Co-Ni-Pt合金的强磁性晶粒。就该磁记录介质(1)而言,构成磁记录层(50)的上述Co-Ni-Pt合金由于在常温下具有非常高的各向异性磁场,因此所记录的磁信号的稳定性极其优异。另外,就该磁记录介质(1)而言,构成磁记录层(50)的上述Co-Ni-Pt合金由于具有适当的温度范围的居里点,因此可通过热辅助磁记录方式来进行信号记录。
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公开(公告)号:CN102385871A
公开(公告)日:2012-03-21
申请号:CN201110248357.8
申请日:2011-08-26
Applicant: 株式会社日立制作所
IPC: G11B5/66
Abstract: 本发明提供具有足以实现1万亿比特/cm2以上的面记录密度的垂直磁各向异性能量和结晶粒径、且批量生产性优良的垂直磁记录介质及其制造方法。该制造方法是在基板上依次形成基板温度控制层、基底层、磁记录层。磁记录层通过将由第一工序和第二工序构成的磁性层层叠工序重复进行N次(N≥2)来形成,其中,所述第一工序是将基板在加热室内进行加热,所述第二工序是将由添加有选自C、Si氧化物中的至少一种非磁性材料且以FePt为主的合金构成的磁记录层在制膜室内进行制膜。
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公开(公告)号:CN101964195B
公开(公告)日:2012-06-20
申请号:CN201010234468.9
申请日:2010-07-20
Applicant: 株式会社日立制作所 , 富士电机株式会社 , 国立大学法人东北大学
IPC: G11B5/65
CPC classification number: G11B5/656 , G11B5/65 , G11B5/7315 , G11B5/7325
Abstract: 本发明提供一种磁记录介质,所记录的磁信号的稳定性优异并且可进行基于热辅助磁记录方式的磁信号记录。将磁记录层(50)应用于磁记录介质(1),所述磁记录层(50)包含Pt含量为44at%以上55at%以下并且Ni/(Co+Ni)的原子含量比为0.64以上0.8以下的Co-Ni-Pt合金的强磁性晶粒。就该磁记录介质(1)而言,构成磁记录层(50)的上述Co-Ni-Pt合金由于在常温下具有非常高的各向异性磁场,因此所记录的磁信号的稳定性极其优异。另外,就该磁记录介质(1)而言,构成磁记录层(50)的上述Co-Ni-Pt合金由于具有适当的温度范围的居里点,因此可通过热辅助磁记录方式来进行信号记录。
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