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公开(公告)号：CN118715594A
公开(公告)日：2024-09-27
申请号：CN202380021805.1
申请日：2023-02-14
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/304
Abstract: 本发明的基板处理方法以及基板处理系统，在保持为大致水平姿势的基板的表面形成由包含超精细气泡的液体所形成的液膜，向容纳形成有液膜的基板的腔室内导入非超临界状态的处理流体，并对处理流体进行加压而使处理流体达到超临界状态，通过处理流体置换基板表面的液体，对腔室内进行减压，使变为超临界状态的处理流体气化而向腔室外排出。在腔室内通过超临界状态的处理流体处理基板的技术中，能够通过成为超临界状态前的处理流体良好地进行液体的置换。
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