公开(公告)号：CN102597873B

公开(公告)日：2014-12-17

申请号：CN201080049094.1

申请日：2010-11-04

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 蛭川茂 ,  近藤信二郎

IPC: G03F1/44 ,  G01B11/00 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F9/7026 ,  G03F1/44 ,  G03F7/70641

Abstract: 用以测量焦点资讯的焦点测试标线片具有外侧图案，外侧图案具有由延伸于Y方向的遮光膜构成的线图案，设于线图案的+X方向侧、线宽形成为较线图案狭窄的相位偏移部，设于线图案的-X方向侧、线宽形成为较线图案狭窄的透射部，设于相位偏移部的+X方向侧的透射部，设于透射部的-X方向侧的相位偏移部。能以高测量再现性且高测量效率测量投影光学系统的焦点资讯。

公开(公告)号：CN1813338A

公开(公告)日：2006-08-02

申请号：CN200480018268.2

申请日：2004-07-01

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 近藤信二郎

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20 ,  G03F1/08

CPC classification number: G03F7/70641 ,  G03F1/26 ,  G03F1/44

Abstract: 一种对焦测试掩模，其上设置有通过投影光学系统(PL)向晶片(W)上投影的测试图形，该测试图形包括：在计测方向上并列配置的多个线条图形(12a～12f)、设置在多个线条图形各自近旁的区域且是用于使通过光的相位错开的相位移动部(13)和用于得到在测定所述线条图形的像的偏移时的成为基准像的基准图形(11a～11d)，这些多个线条图形的间隔被设定成能把各自的线条图形看作是与孤立线等效的间隔。

公开(公告)号：CN102597873A

公开(公告)日：2012-07-18

申请号：CN201080049094.1

申请日：2010-11-04

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 蛭川茂 ,  近藤信二郎

IPC: G03F1/44 ,  G01B11/00 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F9/7026 ,  G03F1/44 ,  G03F7/70641

Abstract: 用以测量焦点资讯的焦点测试标线片具有外侧图案，外侧图案具有由延伸于Y方向的遮光膜构成的线图案，设于线图案的+X方向侧、线宽形成为较线图案狭窄的相位偏移部，设于线图案的-X方向侧、线宽形成为较线图案狭窄的透射部，设于相位偏移部的+X方向侧的透射部，设于透射部的-X方向侧的相位偏移部。能以高测量再现性且高测量效率测量投影光学系统的焦点资讯。