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公开(公告)号：CN101796614B
公开(公告)日：2012-01-18
申请号：CN200980100313.1
申请日：2009-02-06
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 牧野内进
IPC: H01L21/027 , G01B11/00 , G01D5/36 , G03F7/20 , H01L21/68
CPC classification number: G01D5/34746 , G01D5/38 , G03F7/70725 , G03F7/70775 , G03F7/7085
Abstract: 本发明的位置测量系统，在载台下面固定有设置了移动光栅(34Y，34X，36Y，36X)的反射镜区块(30)。在与载台下面相对向的载台座上面，配置有固定光栅(38Y1，38Y2，38X)。包含移动光栅(34Y，36Y)及固定光栅(38Y1，38Y2)，而构成对载台的Y位置信息进行测量的Y编码器(20Y1，20Y2)。同样地，包含移动光栅(34X，36X)及固定光栅(38X)，而构成对载台的X位置信息进行测量的X编码器(20X)。
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公开(公告)号：CN101479832B
公开(公告)日：2011-05-11
申请号：CN200780021002.7
申请日：2007-06-11
Applicant: 株式会社尼康
IPC: H01L21/027 , G01B11/00 , G01D5/38 , G03F7/20
CPC classification number: G01D5/38 , G01D5/266 , G03F7/70716 , G03F7/70775
Abstract: 本发明提供一种移动体装置、曝光装置和曝光方法以及元件制造方法。本发明是在晶圆载台(WST)的侧面上设置移动栅格(30X)，并从光源(22)对该移动栅格照射光束，且利用与光源之间的位置关系固定的固定尺规(24A、24B)及索引尺规(26)，而使移动栅格所产生的绕射光受到干涉，并利用检测器(28)检测出该被干涉了的光。在这种情况下，由于移动栅格被设置在晶圆载台的侧面上，所以能够抑制晶圆载台全体的大型化。而且，由于干涉是在通过非常接近的光路的多个绕射光(例如±1次绕射光)间产生，所以与习知的干涉仪相比，因周边环境的晃动所产生的影响少，藉此可进行高精度的移动体的位置资讯的计测。
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公开(公告)号：CN100470722C
公开(公告)日：2009-03-18
申请号：CN200480023577.9
申请日：2004-08-20
Applicant: 株式会社尼康
IPC: H01L21/027 , G03F7/20
Abstract: 一种通过把曝光光经由投影光学系统和液体照射到被放置在所述投影光学系统的图像面一侧的基片而曝光基片的曝光设备，该曝光设备包括：液体供应机构，用来把液体供应到基片上；液体回收机构，用来回收被供应到基片上的液体；以及其中当曝光光照射到投影光学系统的图像面一侧时，液体回收机构不执行液体的回收。
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公开(公告)号：CN1836312A
公开(公告)日：2006-09-20
申请号：CN200480023577.9
申请日：2004-08-20
Applicant: 株式会社尼康
IPC: H01L21/027 , G03F7/20
Abstract: 一种通过把曝光光经由投影光学系统和液体照射到被放置在所述投影光学系统的图像面一侧的基片而曝光基片的曝光设备，该曝光设备包括：液体供应机构，用来把液体供应到基片上；液体回收机构，用来回收被供应到基片上的液体；以及其中当曝光光照射到投影光学系统的图像面一侧时，液体回收机构不执行液体的回收。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102308187B
公开(公告)日：2015-03-04
申请号：CN200980155991.8
申请日：2009-11-11
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G01D5/38
CPC classification number: G01D5/38 , G01D5/34746
Abstract: 编码器，其具备：光调制部，用以调制从光源射出的光的至少一部分；移动构件，具有光中的多个光线射入的入射面，可于至少一方向相对移动；以及至少两个受光部，分别接受在移动构件上的至少两个区域产生的干涉条纹；以随着光调制部进行的调制使至少两个干涉条纹在移动构件上彼此移动于相反方向的方式，使光射入移动构件。
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公开(公告)号：CN101680746B
公开(公告)日：2013-11-20
申请号：CN200880018712.9
申请日：2008-12-10
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 牧野内进
IPC: G01B11/00 , G01D5/36 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G01D5/266 , G01D5/34715 , G03F7/70775
Abstract: 本发明提供一种移动体装置，具备：具有测量载台(WST)的一轴(Y轴)方向位置的编码器(28Y)及干涉仪(26Y)的Y位置测量系统(20Y)。干涉仪(26Y)，接近编码器(28Y)的测量光(BE)将测量光(B1，B2)照射于设在载台(WST)的反射面(36Y)，并接收其反射光。此处，编码器(28Y)与干涉仪(26Y)，兼用固定于载台(WST)的光学构件(30Y)。因此，Y干涉仪(26Y)与Y编码器(28Y)具有大致相等的测长轴。
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公开(公告)号：CN101796614A
公开(公告)日：2010-08-04
申请号：CN200980100313.1
申请日：2009-02-06
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 牧野内进
IPC: H01L21/027 , G01B11/00 , G01D5/36 , G03F7/20 , H01L21/68
CPC classification number: G01D5/34746 , G01D5/38 , G03F7/70725 , G03F7/70775 , G03F7/7085
Abstract: 本发明的位置测量系统，在载台下面固定有设置了移动光栅(34Y，34X，36Y，36X)的反射镜区块(30)。在与载台下面相对向的载台座上面，配置有固定光栅(38Y1，38Y2，38X)。包含移动光栅(34Y，36Y)及固定光栅(38Y1，38Y2)，而构成对载台的Y位置信息进行测量的Y编码器(20Y1，20Y2)。同样地，包含移动光栅(34X，36X)及固定光栅(38X)，而构成对载台的X位置信息进行测量的X编码器(20X)。
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公开(公告)号：CN101680746A
公开(公告)日：2010-03-24
申请号：CN200880018712.9
申请日：2008-12-10
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 牧野内进
IPC: G01B11/00 , G01D5/36 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G01D5/266 , G01D5/34715 , G03F7/70775
Abstract: 本发明提供一种移动体装置，具备：具有测量载台(WST)的一轴(Y轴)方向位置的编码器(28Y)及干涉仪(26Y)的Y位置测量系统(20Y)。干涉仪(26Y)，接近编码器(28Y)的测量光(BE)将测量光(B1，B2)照射于设在载台(WST)的反射面(36Y)，并接收其反射光。此处，编码器(28Y)与干涉仪(26Y)，兼用固定于载台(WST)的光学构件(30Y)。因此，Y干涉仪(26Y)与Y编码器(28Y)具有大致相等的测长轴。
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公开(公告)号：CN102308187A
公开(公告)日：2012-01-04
申请号：CN200980155991.8
申请日：2009-11-11
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G01D5/38
CPC classification number: G01D5/38 , G01D5/34746
Abstract: 编码器，其具备：光调制部，用以调制从光源射出的光的至少一部分；移动构件，具有光中的多个光线射入的入射面，可于至少一方向相对移动；以及至少两个受光部，分别接受在移动构件上的至少两个区域产生的干涉条纹；以随着光调制部进行的调制使至少两个干涉条纹在移动构件上彼此移动于相反方向的方式，使光射入移动构件。
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