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公开(公告)号:CN101479832B
公开(公告)日:2011-05-11
申请号:CN200780021002.7
申请日:2007-06-11
Applicant: 株式会社尼康
IPC: H01L21/027 , G01B11/00 , G01D5/38 , G03F7/20
CPC classification number: G01D5/38 , G01D5/266 , G03F7/70716 , G03F7/70775
Abstract: 本发明提供一种移动体装置、曝光装置和曝光方法以及元件制造方法。本发明是在晶圆载台(WST)的侧面上设置移动栅格(30X),并从光源(22)对该移动栅格照射光束,且利用与光源之间的位置关系固定的固定尺规(24A、24B)及索引尺规(26),而使移动栅格所产生的绕射光受到干涉,并利用检测器(28)检测出该被干涉了的光。在这种情况下,由于移动栅格被设置在晶圆载台的侧面上,所以能够抑制晶圆载台全体的大型化。而且,由于干涉是在通过非常接近的光路的多个绕射光(例如±1次绕射光)间产生,所以与习知的干涉仪相比,因周边环境的晃动所产生的影响少,藉此可进行高精度的移动体的位置资讯的计测。
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公开(公告)号:CN102308187A
公开(公告)日:2012-01-04
申请号:CN200980155991.8
申请日:2009-11-11
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G01D5/38
CPC classification number: G01D5/38 , G01D5/34746
Abstract: 编码器,其具备:光调制部,用以调制从光源射出的光的至少一部分;移动构件,具有光中的多个光线射入的入射面,可于至少一方向相对移动;以及至少两个受光部,分别接受在移动构件上的至少两个区域产生的干涉条纹;以随着光调制部进行的调制使至少两个干涉条纹在移动构件上彼此移动于相反方向的方式,使光射入移动构件。
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公开(公告)号:CN101535777A
公开(公告)日:2009-09-16
申请号:CN200780042084.3
申请日:2007-11-08
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G01D5/38
CPC classification number: G01D5/38
Abstract: 本发明是一种编码器,对于来自受光元件(26)的光电转换信号(Ia、Ib、Ic、Id)进行运算,结果计算出2个信号(IA、IB)。然后,由信号(IA、IB)生成信号(IAB),且从编码器(10)输出此信号(IAB)。如式(7)所示,此信号(IAB)中依赖于时间t的项为4d·sin(ωt)。另一方面,如式(5)及(6)所示,信号(IA、IB)中依赖于时间t的项为2d·sin(ωt),因此,信号(IAB)相对于信号(IA、IB)的变化等同于实质上将调制度扩大为2倍。所以,当根据信号(IAB)检测移动标度(24)的位置时,能与将调制度扩大为2倍时同样地以高精度检测出移动标度(24)的位置。
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公开(公告)号:CN101479832A
公开(公告)日:2009-07-08
申请号:CN200780021002.7
申请日:2007-06-11
Applicant: 株式会社尼康
IPC: H01L21/027 , G01B11/00 , G01D5/38 , G03F7/20
CPC classification number: G01D5/38 , G01D5/266 , G03F7/70716 , G03F7/70775
Abstract: 本发明提供一种移动体装置、曝光装置和曝光方法以及元件制造方法。本发明是在晶圆载台(WST)的侧面上设置移动栅格(30X),并从光源(22)对该移动栅格照射光束,且利用与光源之间的位置关系固定的固定尺规(24A、24B)及索引尺规(26),而使移动栅格所产生的绕射光受到干涉,并利用检测器(28)检测出该被干涉了的光。在这种情况下,由于移动栅格被设置在晶圆载台的侧面上,所以能够抑制晶圆载台全体的大型化。而且,由于干涉是在通过非常接近的光路的多个绕射光(例如±1次绕射光)间产生,所以与习知的干涉仪相比,因周边环境的晃动所产生的影响少,藉此可进行高精度的移动体的位置资讯的计测。
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公开(公告)号:CN102308187B
公开(公告)日:2015-03-04
申请号:CN200980155991.8
申请日:2009-11-11
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G01D5/38
CPC classification number: G01D5/38 , G01D5/34746
Abstract: 编码器,其具备:光调制部,用以调制从光源射出的光的至少一部分;移动构件,具有光中的多个光线射入的入射面,可于至少一方向相对移动;以及至少两个受光部,分别接受在移动构件上的至少两个区域产生的干涉条纹;以随着光调制部进行的调制使至少两个干涉条纹在移动构件上彼此移动于相反方向的方式,使光射入移动构件。
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