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发明公开
分析系统、曝光方法、曝光装置和元件审中-实审

公开(公告)号：CN118805144A

公开(公告)日：2024-10-18

申请号：CN202380025099.8

申请日：2023-03-10

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 宫崎圣二 , 樋口洁 , 泽冈阳介 , 木村道博

IPC: G03F9/00 , G03F7/20

Abstract: 本发明的分析系统包括：第一测量部，测量第一信息，所述第一信息为第一基板上的第一图案的图案信息；存储部，存储所述第一测量部所测量的所述第一信息；第二测量部，测量第二信息，所述第二信息为在第二基板上曝光出的第二图案的图案信息；以及决定部，基于存储于所述存储部的所述第一信息及所述第二信息，选定所述第一信息中满足规定条件的第一信息即第三信息，并基于所述第三信息来决定在所述第二基板的所述第二图案上曝光第三图案的第一曝光条件。

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