图案形成方法及装置、图案曝光方法、以及元件制造方法

    公开(公告)号:CN106919003B

    公开(公告)日:2018-10-16

    申请号:CN201611176699.2

    申请日:2012-09-27

    Abstract: 本发明提供一种图案形成方法及装置、图案曝光方法、以及元件制造方法,将基板搬送于长边方向,于基板的被处理面形成电子元件用的图案,包含:一边利用引导构件分别支承在基板的长边方向上分离既定距离的2处位置,一边以使基板的2处位置之间在与长边方向正交的短边方向以既定程度收缩的方式,对基板的既定距离的部分赋予长边方向张力的步骤;在2处位置之间,在无摩擦的状态或接触区域小的状态下,利用基板支承构件将基板的被处理面的背侧的面的一部分,平面状或曲面状地予以支承的步骤;在与在以既定程度收缩的状态下利用基板支承构件予以支承的基板的一部分对应而被设定于被处理面的区域内形成电子元件用的图案的步骤。

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