用于大规模光学制造的方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117529386A

    公开(公告)日:2024-02-06

    申请号:CN202280043924.2

    申请日:2022-06-24

    Abstract: 本发明公开解决微结构的大规模光学制造问题的系统及方法。所述系统及方法利用一个或多个光学处理系统在表面上的第一区中生成第一组对准标记。光学处理系统然后将其焦点移动到所述表面上的第二区。第二区大致与第一区部分地交叠,进而使得光学处理系统可检测第一组对准标记的位置。光学处理系统然后基于第一组对准标记的位置来生成第二组对准标记。以迭代的方式重复进行此过程,直到在所述表面的所有区上都已生成对准标记为止。对准标记可用于以光学方式对被配置成在所述表面上产生3D结构的一个或多个光学处理系统进行对准。

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