公开(公告)号：CN1922715A

公开(公告)日：2007-02-28

申请号：CN200580005189.2

申请日：2005-02-17

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 堀川浩人

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70341 ,  G03F7/70525 ,  G03F7/70733 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/70783 ,  G03F9/7003 ,  G03F9/7026 ,  G03F9/7034 ,  G03F9/7096

Abstract: 本发明提供一种曝光装置，其即使在将液浸法应用于双台型曝光装置时，亦可良好地进行计测处理且可精度良好地进行曝光处理。该曝光装置(EX)具备：至少2个基板台(PST1、PST2)，其各自可保持并移动各基板(P)；曝光站(STE)，其藉由投影光学系统(PL)和液体(LQ)来对该保持在其中一个基板台(PST1)上的基板(P)进行曝光；以及计测站(STA)，其对另一个基板台(PST2)或该基板台(PST2)上所保持着的基板(P)进行计测。该计测站(STA)中的计测是在基板台(PST2)上或基板(P)上配置着液体(LQ)时的状态下进行。

公开(公告)号：CN1507649A

公开(公告)日：2004-06-23

申请号：CN02804844.X

申请日：2002-02-13

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 萩原恒幸 ,  吉元宏充 ,  堀川浩人 ,  水谷英夫

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20 ,  G03F1/14 ,  H01L21/68

CPC classification number: G03F7/707 ,  G03F7/70833 ,  H01L21/6838

Abstract: 在本发明的保持装置中，标线片保持座(18)备有第1吸引部(63)、第2吸引部(64)、与吸引装置相连的细孔(70a)、与吸引装置(72)相连的细孔(70b)。第1吸引部(63)与标线片(R)的下面(Ra)中的、具有规定面精度的精度保证区域(AR1)相对。第2吸引部(64)与精度保证区域(AR1)以外的精度非保证区域(AR2)相对。吸引装置用于吸引标线片(R)的下面(Ra)与第1吸引部(63)之间空间的气体。吸引装置(72)用于吸引标线片(R)的下面(Ra)与第2吸引部(64)之间空间的气体。这样，不使精度保证区域的面精度恶化，可稳定地保持住标线片。

公开(公告)号：CN100524616C

公开(公告)日：2009-08-05

申请号：CN200580005189.2

申请日：2005-02-17

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 堀川浩人

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70341 ,  G03F7/70525 ,  G03F7/70733 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/70783 ,  G03F9/7003 ,  G03F9/7026 ,  G03F9/7034 ,  G03F9/7096

Abstract: 本发明提供一种曝光装置，其即使在将液浸法应用于双台型曝光装置时，亦可良好地进行计测处理且可精度良好地进行曝光处理。该曝光装置(EX)具备：至少2个基板台(PST1、PST2)，其各自可保持并移动各基板(P)；曝光站(STE)，其藉由投影光学系统(PL)和液体(LQ)来对该保持在其中一个基板台(PST1)上的基板(P)进行曝光；以及计测站(STA)，其对另一个基板台(PST2)或该基板台(PST2)上所保持着的基板(P)进行计测。该计测站(STA)中的计测是在基板台(PST2)上或基板(P)上配置着液体(LQ)时的状态下进行。