曝光装置
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101526759B

    公开(公告)日:2013-07-24

    申请号:CN200910129712.2

    申请日:2004-09-29

    IPC分类号: G03F7/20

    摘要: 本发明提供一种曝光装置,通过将曝光光经由液体照射在基板上而将所述基板曝光,其中,具备:投影光学系统;以及计测装置,具有设置在所述投影光学系统的像面侧的光透过部,以及经由该光透过部而接收通过了所述投影光学系统的曝光光的光接收器,所述计测装置的光接收器,在所述投影光学系统和所述光透过部之间没有液体的状态下,接收通过了所述光透过部以及投影光学系统的曝光光。

    光学积分器、照明光学装置、曝光装置、方法及元件制法

    公开(公告)号:CN101006553A

    公开(公告)日:2007-07-25

    申请号:CN200580027963.X

    申请日:2005-12-09

    发明人: 北尚宪

    IPC分类号: H01L21/027 G03F7/20 G02B19/00

    摘要: 本发明涉及一种具有下述特性的光学积分器,即,将一对光学构件的相对位置决定误差对照明度分布或照明范围的形状的影响抑制为较小。本发明的光学积分器是自光入射侧依次具备第1光学构件(8a)及第2光学构件(8b)的波阵面分裂型光学积分器(8)。第1光学构件具备在第1方向(Z方向)上具有折射力、且在第2方向(X方向)上无折射力的多个第1入射面(8aa),以及在第1方向上具有折射力、且在第2方向上无折射力的多个第1出射面(8ab)。第2光学构件具备在第2方向上具有折射力、且在1方向上无折射力的多个第2入射面(8ba),以及在第2方向上具有折射力、且在第1方向上无折射力的多个第2出射面(8bb)。

    光学装置及检查方法
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118451317A

    公开(公告)日:2024-08-06

    申请号:CN202180105283.4

    申请日:2021-12-28

    IPC分类号: G01N21/956 G01B11/30

    摘要: 将如下光学装置,即对在与第一方向交叉的第二方向上设置有多个在第一方向上相连的凸状部分的具有肋条结构的被检查面进行检查的光学装置构成为包括:聚光光学系统,将来自光源的光照射至被检查面上的照射区域,并对在照射区域中反射的光进行聚光;以及光接收元件,具有配置于和关于聚光光学系统而与被检查面共轭的面不同的面的光接收面,并检测基于由聚光光学系统聚光的光的强度分布。

    曝光装置、曝光方法、器件制造方法及评价方法

    公开(公告)号:CN108107685A

    公开(公告)日:2018-06-01

    申请号:CN201810043569.4

    申请日:2013-04-30

    发明人: 北尚宪

    摘要: 例如通过遍及光瞳亮度分布的大致整体的离散性微小调制,可靠且迅速地改善光瞳亮度分布。包含:第5工序,使用由第1工序至第4工序构成的评价方法,求出通过形成在照明光瞳上的光瞳亮度分布得到的指标值;第6工序,按单位光瞳区域求出在前面的工序中求出的离散数据中、指标值的单位变化量;第7工序,利用使用单位变化量的改善方法,以使指标值接近目标指标值的方式求出调制后的离散数据;以及第8工序,使用由第1工序至第4工序构成的评价方法,求出与在第7工序中求出的调制后的离散数据对应地得到的指标值,通过重复第6工序至第8工序直到与调制后的离散数据对应地得到的指标值的误差收敛在容许范围内,改善应形成在照明光瞳上的光瞳亮度分布。

    曝光装置、曝光方法、器件制造方法及评价方法

    公开(公告)号:CN108107685B

    公开(公告)日:2021-01-15

    申请号:CN201810043569.4

    申请日:2013-04-30

    发明人: 北尚宪

    摘要: 例如通过遍及光瞳亮度分布的大致整体的离散性微小调制,可靠且迅速地改善光瞳亮度分布。包含:第5工序,使用由第1工序至第4工序构成的评价方法,求出通过形成在照明光瞳上的光瞳亮度分布得到的指标值;第6工序,按单位光瞳区域求出在前面的工序中求出的离散数据中、指标值的单位变化量;第7工序,利用使用单位变化量的改善方法,以使指标值接近目标指标值的方式求出调制后的离散数据;以及第8工序,使用由第1工序至第4工序构成的评价方法,求出与在第7工序中求出的调制后的离散数据对应地得到的指标值,通过重复第6工序至第8工序直到与调制后的离散数据对应地得到的指标值的误差收敛在容许范围内,改善应形成在照明光瞳上的光瞳亮度分布。

    光学积分器、照明光学装置、曝光装置、方法及元件制法

    公开(公告)号:CN100521089C

    公开(公告)日:2009-07-29

    申请号:CN200580027963.X

    申请日:2005-12-09

    发明人: 北尚宪

    IPC分类号: H01L21/027 G03F7/20 G02B19/00

    摘要: 本发明涉及一种具有下述特性的光学积分器,即,将一对光学构件的相对位置决定误差对照明度分布或照明范围的形状的影响抑制为较小。本发明的光学积分器是自光入射侧依次具备第1光学构件(8a)及第2光学构件(8b)的波阵面分裂型光学积分器(8)。第1光学构件具备在第1方向(Z方向)上具有折射力、且在第2方向(X方向)上无折射力的多个第1入射面(8aa),以及在第1方向上具有折射力、且在第2方向上无折射力的多个第1出射面(8ab)。第2光学构件具备在第2方向上具有折射力、且在1方向上无折射力的多个第2入射面(8ba),以及在第2方向上具有折射力、且在第1方向上无折射力的多个第2出射面(8bb)。

    数据生成方法、云端系统、加工装置、计算机程序及记录介质

    公开(公告)号:CN118284491A

    公开(公告)日:2024-07-02

    申请号:CN202180103673.8

    申请日:2021-10-27

    IPC分类号: B23K26/36 B23K26/70

    摘要: 数据生成方法生成用以控制能够通过对物体照射脉冲能量束来对物体进行去除加工的加工装置的控制数据,上述数据生成方法在对测试工件照射脉冲能量束后,测量测试工件的去除加工后的形状,基于测试工件的去除加工前的形状信息及测试工件的去除加工后的形状的测量结果,算出与对测试工件的光侵入长有关的信息,基于与相对于脉冲能量束的照射方向而言的被照射脉冲能量束的物体的各照射目标位置的倾斜度有关的信息及与光侵入长有关的信息,在每个照射目标位置算出对物体照射单位次数的脉冲能量束的情况的物体的单位加工量,且基于每个照射目标位置的目标加工量及每个照射目标位置的单位加工量,算出应对每个照射目标位置照射脉冲能量束的目标次数。