公开(公告)号：CN101435995A

公开(公告)日：2009-05-20

申请号：CN200810171829.2

申请日：2008-11-12

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 金政佑 ,  金德倍 ,  金宰贤

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/00

CPC classification number: G03F7/0045 ,  C07C69/94 ,  C07C2601/08 ,  C07C2601/14 ,  C07C2603/74 ,  C08G65/3315 ,  C08G65/3326 ,  C08G65/3346 ,  G03F7/0392

Abstract: 本发明公开了光敏化合物以及包含该光敏化合物的光致抗蚀剂组合物，该光敏化合物作为分子抗蚀剂，其粒径小于用于光致抗蚀剂的常规聚合物，并且该光敏化合物能够形成纳米组装。用以下通式表示所述光敏化合物。此外，本发明提供了光致抗蚀剂组合物，其包含1wt％至85wt％(重量％)的光敏化合物；相对于100重量份的光敏化合物，0.05至15重量份的光致产酸剂；以及相对于100重量份的光敏化合物，50至5000重量份的有机溶剂。在所述通式中，n是氧化异丙基(－CH(CH3)CH2O－)单体的重复个数，并且是1至40的整数，以及R是1至20个碳原子的烷基基团或3至20个碳原子的环烷基基团。

公开(公告)号：CN101435995B

公开(公告)日：2012-11-28

申请号：CN200810171829.2

申请日：2008-11-12

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 金政佑 ,  金德倍 ,  金宰贤

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/00

CPC classification number: G03F7/0045 ,  C07C69/94 ,  C07C2601/08 ,  C07C2601/14 ,  C07C2603/74 ,  C08G65/3315 ,  C08G65/3326 ,  C08G65/3346 ,  G03F7/0392

Abstract: 本发明公开了光敏化合物以及包含该光敏化合物的光致抗蚀剂组合物，该光敏化合物作为分子抗蚀剂，其粒径小于用于光致抗蚀剂的常规聚合物，并且该光敏化合物能够形成纳米组装。用以下通式表示所述光敏化合物。此外，本发明提供了光致抗蚀剂组合物，其包含1wt％至85wt％(重量％)的光敏化合物；相对于100重量份的光敏化合物，0.05至15重量份的光致产酸剂；以及相对于100重量份的光敏化合物，50至5000重量份的有机溶剂。在所述通式中，n是氧化异丙基(-CH(CH3)CH2O-)单体的重复个数，并且是1至40的整数，以及R是1至20个碳原子的烷基基团或3至20个碳原子的环烷基基团。