公开(公告)号：CN101142293A

公开(公告)日：2008-03-12

申请号：CN200680008151.5

申请日：2006-03-08

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 朴钟大 ,  金东完

IPC: C09K3/14

CPC classification number: C11D7/02 ,  C11D11/0047 ,  C11D17/003

Abstract: 本发明公开了用于制备化学机械抛光(CMP)研磨液组合物的氧化剂及其制备方法。制备用于(CMP)研磨液组合物的氧化剂的方法包括下列步骤：通过将铁盐和5℃或更低的冷水混合来制备铁盐水溶液；以及通过将硅盐与所述铁盐水溶液混合并搅拌以进行硅盐的反应制备纳米合成颗粒，其中所述纳米合成颗粒为含铁的胶态硅。

公开(公告)号：CN101393393B

公开(公告)日：2014-04-09

申请号：CN200810149252.5

申请日：2008-09-22

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 金东完 ,  李成勋 ,  李英焕 ,  朴廷薰

IPC: G03F7/004 ,  C03C17/00 ,  G03F7/16 ,  G03F7/00 ,  H01J17/04 ,  H01J17/49

Abstract: 本发明涉及等离子体显示屏(PDP)电极形成用浆料组合物，该组合物能够提高平板涂布法的生产率和实现薄膜化，用于形成电极的浆料的量少于现有的黑糊剂用量而能够降低成本，不仅如此，该组合物使用纳米颗粒无机物而能够使浆料的稳定性显著提高。本发明的PDP电极形成用浆料组合物的特征在于，所述组合物包含a)0.5重量份～8重量份颗粒尺寸为10nm～1000nm的黑色颜料；b)0.5重量份～8重量份烧制时被玻璃化的平均颗粒尺寸为1nm～500nm的玻璃粉原料物质；c)84重量份～98重量份感光性有机成分。

公开(公告)号：CN101142293B

公开(公告)日：2012-03-14

申请号：CN200680008151.5

申请日：2006-03-08

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 朴钟大 ,  金东完

IPC: C09K3/14

CPC classification number: C11D7/02 ,  C11D11/0047 ,  C11D17/003

Abstract: 本发明公开了用于制备化学机械抛光(CMP)研磨液组合物的氧化剂及其制备方法。制备用于(CMP)研磨液组合物的氧化剂的方法包括下列步骤：通过将铁盐和5℃或更低的冷水混合来制备铁盐水溶液；以及通过将硅盐与所述铁盐水溶液混合并搅拌以进行硅盐的反应制备纳米合成颗粒，其中所述纳米合成颗粒为含铁的胶态硅。

公开(公告)号：CN101989521A

公开(公告)日：2011-03-23

申请号：CN200910179222.3

申请日：2009-10-10

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 朴赞硕 ,  金东完 ,  李成勋 ,  李英焕 ,  朴廷薰

IPC: H01J17/04 ,  H01J9/02 ,  H01J17/49

Abstract: 本发明提供等离子体显示屏电极形成用光敏性糊剂，该等离子体显示屏电极形成用光敏性糊剂，能形成黑色层和导电层一体化的等离子体显示屏的汇流电极，通过减少黑色颜料使用量来减少制造费用，同时能够低温烧成，并且能形成高分辨率电极图案，不增加电阻也能使等离子体显示屏的黑度得到改善。本发明的等离子体显示屏电极形成用光敏性糊剂含有a)电极用金属粉末40～80重量份；b)V2O5-P2O5系黑色玻璃料或者V2O5-P2O5系和Bi2O3-ZnO-B2O3系混合的黑色玻璃料1～10重量份；c)Cu-Co-Mn系黑色颜料1～7重量份；和d)光敏性有机成分7～40重量份。