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公开(公告)号：CN1200902C
公开(公告)日：2005-05-11
申请号：CN01807058.2
申请日：2001-06-20
Applicant: 株式会社东芝 , 旭硝子株式会社 , 触媒化成工业株式会社
CPC classification number: C03C17/3655 , C03C17/007 , C03C17/34 , C03C17/36 , C03C17/3676 , C03C2217/425 , C03C2217/445 , C03C2217/475 , C03C2217/76 , C03C2217/78 , Y10T428/249953 , Y10T428/249962 , Y10T428/249998 , Y10T428/25 , Y10T428/2982 , Y10T428/2984 , Y10T428/2991 , Y10T428/2993 , Y10T428/2995 , Y10T428/2996 , Y10T428/2998
Abstract: 提供一种透明涂膜基片，它具有折射指数较小、收缩性能较低的透明膜；该透明膜对基片或在基片上形成的透明导电膜有极好的附着性，并且具有极好的膜强度、防水性、耐化学性等性质。透明涂膜基片由基片和在基片的表面上形成的透明涂膜形成，透明涂膜包含(i)含有具有氟代烷基的聚硅酮的基质，(ii)由壳和封入壳中的多孔物质或空腔构成的无机化合物颗粒，所述多孔物质或空腔在所形成的透明涂膜中保持不变。
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公开(公告)号：CN1673144A
公开(公告)日：2005-09-28
申请号：CN200510054846.4
申请日：2001-06-20
Applicant: 株式会社东芝 , 旭硝子株式会社 , 触媒化成工业株式会社
CPC classification number: C03C17/3655 , C03C17/007 , C03C17/34 , C03C17/36 , C03C17/3676 , C03C2217/425 , C03C2217/445 , C03C2217/475 , C03C2217/76 , C03C2217/78 , Y10T428/249953 , Y10T428/249962 , Y10T428/249998 , Y10T428/25 , Y10T428/2982 , Y10T428/2984 , Y10T428/2991 , Y10T428/2993 , Y10T428/2995 , Y10T428/2996 , Y10T428/2998
Abstract: 提供了一种无机化合物颗粒，它包括：壳，以及封入壳中的多孔物质或空腔。还提供了制备所述无机化合物颗粒的方法，它包括以下步骤：分别制备二氧化硅源(原材料)和非二氧化硅无机化合物源(原材料)的碱性水溶液，或者预先制备二氧化硅源和非二氧化硅无机化合物源的混合物的水溶液；从多孔材料前体颗粒中至少部分地将非二氧化硅的无机化合物(除了硅和氧以外的元素)选择性地除去；将可水解的有机硅化合物或硅酸溶液加入步骤2中制得的多孔材料颗粒(包括壳中有空腔的颗粒的前体)的分散液中。
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公开(公告)号：CN1436156A
公开(公告)日：2003-08-13
申请号：CN01807058.2
申请日：2001-06-20
Applicant: 株式会社东芝 , 旭硝子株式会社 , 触媒化成工业株式会社
CPC classification number: C03C17/3655 , C03C17/007 , C03C17/34 , C03C17/36 , C03C17/3676 , C03C2217/425 , C03C2217/445 , C03C2217/475 , C03C2217/76 , C03C2217/78 , Y10T428/249953 , Y10T428/249962 , Y10T428/249998 , Y10T428/25 , Y10T428/2982 , Y10T428/2984 , Y10T428/2991 , Y10T428/2993 , Y10T428/2995 , Y10T428/2996 , Y10T428/2998
Abstract: 提供一种透明涂膜基片，它具有折射指数较小、收缩性能较低的透明膜；该透明膜对基片或在基片上形成的透明导电膜有极好的附着性，并且具有极好的膜强度、防水性、耐化学性等性质。透明涂膜基片由基片和在基片的表面上形成的透明涂膜形成，透明涂膜包含(i)含有具有氟代烷基的聚硅酮的基质，(ii)由壳和封入壳中的多孔物质或空腔构成的无机化合物颗粒，所述多孔物质或空腔在所形成的透明涂膜中保持不变。
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公开(公告)号：CN1268313C
公开(公告)日：2006-08-09
申请号：CN02148605.0
申请日：2002-11-12
Applicant: 触媒化成工业株式会社
IPC: A61K6/04
CPC classification number: C04B35/63 , A61K6/0008 , A61K6/0076 , A61K6/0088 , A61K6/0235 , A61K6/024 , A61K6/0245 , A61K6/0255 , C04B35/62655 , C04B38/009 , C04B2111/00836 , C04B2235/3213 , C04B2235/3215 , C04B2235/3217 , C04B2235/3225 , C04B2235/3227 , C04B2235/3232 , C04B2235/3244 , C04B2235/3284 , C04B2235/3409 , C04B2235/3418 , C04B2235/5409 , C04B2235/5436 , C04B2235/9646 , C04B12/04 , C04B22/08 , C04B28/24 , C04B40/0082 , A61K6/083 , C08L43/04 , C08L33/14 , C08L33/10
Abstract: 本发明提供由二氧化硅与二氧化硅以外的无机氧化物组成的、非晶质的、X射线不透明性高的牙科材料用无机粒子。该牙科材料用无机粒子，由含量为70-98重量%的二氧化硅和选自Zr、Ti、La、Ba、Sr、Hf、Y、Zn、Al、B中1种或2种以上元素的氧化物组成，其中二氧化硅的5-70重量%来自于酸性硅酸溶液，二氧化硅的30-95重量%来自于硅溶胶。该牙科材料用无机粒子，其平均粒径在1-10μm的范围内，比表面积在50-350m2/g的范围内，细孔容积在0.05-0.5ml/g的范围内，由X射线衍射得到的结晶性为无定形，折射率在1.47-1.60的范围内。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1281491C
公开(公告)日：2006-10-25
申请号：CN200410084010.4
申请日：2004-10-13
Applicant: 触媒化成工业株式会社
IPC: C01B33/18
CPC classification number: H01B1/08 , C01P2006/40 , C01P2006/60 , C09C1/3054 , Y10T428/2991
Abstract: 本发明提供一种折射率低并且具有导电性的氧化锑被覆氧化硅类微粒。此氧化锑被覆氧化硅类微粒由多孔质的氧化硅类微粒或内部具有空洞的氧化硅微粒上被覆氧化锑而形成。此氧化锑被覆氧化硅类微粒的折射率在1.35～1.60的范围内，体积电阻值在10～5000Ω/cm的范围内，平均粒径在5～300nm的范围内，氧化锑被覆层的厚度在0.5～30nm的范围内。
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公开(公告)号：CN1506306A
公开(公告)日：2004-06-23
申请号：CN200310121304.5
申请日：2003-12-11
Applicant: 触媒化成工业株式会社
IPC: C01B33/14 , C01B33/141 , C01B33/143
Abstract: 在种粒子分散液中添加规定大小的活性硅酸粒子，可以使种粒子迅速增大。本发明提供一种硅溶胶的制造方法，其特征是在下述(a)的种粒子分散液中，边加热边连续或间断地添加下述(b)的活性硅酸粒子分散液，由此使活性硅酸粒子附着在种粒子上使粒子增大。(a)种粒子的分散液，是通过激光用动态光散射法测定的平均粒径(DLS)在5～1000nm范围内的种粒子的水性分散液，pH在7～12范围内；(b)活性硅酸粒子分散液，是通过激光用动态光散射法测定的平均粒径(DLF)在2～50nm范围内(但是，平均粒径(DLF)小于平均粒径(DLS))、并且用NaOH滴定法测定的平均粒径(DNaF)在0.9～6nm的范围内，再者上述平均粒径(DLF)与上述平均粒径(DNaF)之比(DLF)/(DNaF)在1.8～30范围内的活性硅酸粒子的水性分散液，pH在5～11范围内。
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公开(公告)号：CN1608986A
公开(公告)日：2005-04-27
申请号：CN200410084010.4
申请日：2004-10-13
Applicant: 触媒化成工业株式会社
IPC: C01B33/18
CPC classification number: H01B1/08 , C01P2006/40 , C01P2006/60 , C09C1/3054 , Y10T428/2991
Abstract: 本发明提供一种折射率低并且具有导电性的氧化锑被覆氧化硅类微粒。此氧化锑被覆氧化硅类微粒由多孔质的氧化硅类微粒或内部具有空洞的氧化硅微粒上被覆氧化锑而形成。此氧化锑被覆氧化硅类微粒的折射率在1.35～1.60的范围内，体积电阻值在10～5000Ω/cm的范围内，平均粒径在5～300nm的范围内，氧化锑被覆层的厚度在0.5～30nm的范围内。
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公开(公告)号：CN1312035C
公开(公告)日：2007-04-25
申请号：CN200310121304.5
申请日：2003-12-11
Applicant: 触媒化成工业株式会社
IPC: C01B33/14 , C01B33/141 , C01B33/143
Abstract: 在种粒子分散液中添加规定大小的活性硅酸粒子，可以使种粒子迅速增大。本发明提供一种硅溶胶的制造方法，其特征是在下述(a)的种粒子分散液中，边加热边连续或间断地添加下述(b)的活性硅酸粒子分散液，由此使活性硅酸粒子附着在种粒子上使粒子增大。(a)种粒子的分散液，是通过激光用动态光散射法测定的平均粒径(DLS)在5～1000nm范围内的种粒子的水性分散液，pH在7～12范围内；(b)活性硅酸粒子分散液，是通过激光用动态光散射法测定的平均粒径(DLF)在2～50nm范围内(但是，平均粒径(DLF)小于平均粒径(DLS))、并且用NaOH滴定法测定的平均粒径(DNaF)在0.9～6nm的范围内，再者，上述平均粒径(DLF)与上述平均粒径(DNaF)之比(DLF)/(DNaF)在1.8～30范围内的活性硅酸粒子的水性分散液，pH在5～11范围内。
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公开(公告)号：CN1418610A
公开(公告)日：2003-05-21
申请号：CN02148605.0
申请日：2002-11-12
Applicant: 触媒化成工业株式会社
IPC: A61K6/04
CPC classification number: C04B35/63 , A61K6/0008 , A61K6/0076 , A61K6/0088 , A61K6/0235 , A61K6/024 , A61K6/0245 , A61K6/0255 , C04B35/62655 , C04B38/009 , C04B2111/00836 , C04B2235/3213 , C04B2235/3215 , C04B2235/3217 , C04B2235/3225 , C04B2235/3227 , C04B2235/3232 , C04B2235/3244 , C04B2235/3284 , C04B2235/3409 , C04B2235/3418 , C04B2235/5409 , C04B2235/5436 , C04B2235/9646 , C04B12/04 , C04B22/08 , C04B28/24 , C04B40/0082 , A61K6/083 , C08L43/04 , C08L33/14 , C08L33/10
Abstract: 本发明提供由二氧化硅与二氧化硅以外的无机氧化物组成的、非晶质的、X射线不透明性高的牙科材料用无机粒子。该牙科材料用无机粒子，由含量为70－98重量％的二氧化硅和选自Zr、Ti、La、Ba、Sr、Hf、Y、Zn、Al、B中1种或2种以上元素的氧化物组成，其中二氧化硅的5－70重量％来自于酸性硅酸溶液，二氧化硅的30－95重量％来自于硅溶胶。该牙科材料用无机粒子，其平均粒径在1－10μm的范围内，比表面积在50－350m2/g的范围内，细孔容积在0.05－0.5ml/g的范围内，由X射线衍射得到的结晶性为无定型，折射率在1.47－1.60的范围内。
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