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发明公开
制程装置失效

公开(公告)号：CN111063629A

公开(公告)日：2020-04-24

申请号：CN201910126608.1

申请日：2019-02-20

Applicant: 株式会社东芝 , 东芝电子元件及存储装置株式会社

Inventor： 三田浩史 , 胡恺 , 柴田浩延 , 藤林孝次 , 竖山佳邦 , 薮井秀人

IPC: H01L21/67 , H01L21/683

Abstract: 本发明的实施方式提供一种具有能稳定地保持被处理基板的静电吸盘的制程装置。实施方式的制程装置具有：静电吸盘，配置在基板保持部，且包含电介质及配置在所述电介质内部的电极；电路，电连接于所述静电吸盘的所述电极；及第1接地线，电连接于所述电路。所述第1接地线经由绝缘性包覆层而被金属屏蔽。

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