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公开(公告)号：CN102192997B
公开(公告)日：2014-10-01
申请号：CN201110053298.9
申请日：2011-03-04
Applicant: 株式会社东芝 , 东芝医疗系统株式会社
IPC: G01N35/10
CPC classification number: G01N35/10 , G01N35/1004 , G01N35/1011 , G01N2035/1025 , Y10T436/2575
Abstract: 提供在不使清洗槽的构成变得复杂的情况下能够利用比较短的时间使液体不易附着在探头的阶梯部自动分析装置。下降控制部使上述探头从使上述阶梯部位于液体的液面位置的上方的规定位置，下降至使阶梯部位于液面位置的下方以便进行行对液体的吸取或者利用液体的清洗的各工作的工作位置。从工作位置至阶梯部刚要到达液面位置时的位置，上升控制部使探头以高速上升，然后直至阶梯部通过液面位置为止，使探头以比高速慢的低速上升，从阶梯部刚通过了液面位置至至规定位置，使探头以比低速快的高速上升。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102288773A
公开(公告)日：2011-12-21
申请号：CN201110119037.2
申请日：2011-05-10
Applicant: 株式会社东芝 , 东芝医疗系统株式会社
IPC: G01N35/00
CPC classification number: G01N35/1004
Abstract: 本发明提供一种自动分析装置，具备：采样分注探头(16)，进行从容纳试样的试样容器(17)吸引试样、并吐出到反应容器3内的分注；试样检测器(16b)，通过该试样和采样分注探头(16)的一端部D的接触来检测试样容器(17)内的试样；清洗槽(71)，清洗采样分注探头(16)的与试样接触的一端部D以及大范围W的外表面；以及供给部(73)，向该清洗槽(71)供给清洗液，其中，让采样分注探头(16)进入第2清洗管(714)内，清洗大范围W的外表面，第2清洗管内通过供给部(73)的供给使清洗液贯穿流经，并矗立设置在清洗槽(71)中。
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公开(公告)号：CN102313816B
公开(公告)日：2015-01-07
申请号：CN201110140202.2
申请日：2011-05-27
Applicant: 株式会社东芝 , 东芝医疗系统株式会社
CPC classification number: G01N35/1004
Abstract: 在一实施方式中提供一种自动分析装置，该装置包括：喷嘴、第1以及第2变更单元、清洗水供给单元以及控制单元。控制单元分别控制第1变更单元、第2变更单元以及上述清洗水供给单元，使得作为第1工序形成从喷嘴的流路吐出流体的第1流路状态，作为第2工序而在上述第1工序后形成上述喷嘴的开口位于清洗剂中的第2开口状态和将流体吸入到流路的第2流路状态，作为第3工序而在第2工序后形成第1流路状态，作为第4工序而在第3工序后或与第3工序并行地有以形成第1开口状态并向喷嘴的外壁供给清洗水。
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公开(公告)号：CN102288773B
公开(公告)日：2015-06-17
申请号：CN201110119037.2
申请日：2011-05-10
Applicant: 株式会社东芝 , 东芝医疗系统株式会社
IPC: G01N35/00
CPC classification number: G01N35/1004
Abstract: 本发明提供一种自动分析装置，具备：采样分注探头(16)，进行从容纳试样的试样容器(17)吸引试样、并吐出到反应容器3内的分注；试样检测器(16b)，通过该试样和采样分注探头(16)的一端部D的接触来检测试样容器(17)内的试样；清洗槽(71)，清洗采样分注探头(16)的与试样接触的一端部D以及大范围W的外表面；以及供给部(73)，向该清洗槽(71)供给清洗液，其中，让采样分注探头(16)进入第2清洗管(714)内，清洗大范围W的外表面，第2清洗管内通过供给部(73)的供给使清洗液贯穿流经，并矗立设置在清洗槽(71)中。
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公开(公告)号：CN102313816A
公开(公告)日：2012-01-11
申请号：CN201110140202.2
申请日：2011-05-27
Applicant: 株式会社东芝 , 东芝医疗系统株式会社
CPC classification number: G01N35/1004
Abstract: 在一实施方式中提供一种自动分析装置，该装置包括：喷嘴、第1以及第2变更单元、清洗水供给单元以及控制单元。控制单元分别控制第1变更单元、第2变更单元以及上述清洗水供给单元，使得作为第1工序形成从喷嘴的流路吐出流体的第1流路状态，作为第2工序而在上述第1工序后形成上述喷嘴的开口位于清洗剂中的第2开口状态和将流体吸入到流路的第2流路状态，作为第3工序而在第2工序后形成第1流路状态，作为第4工序而在第3工序后或与第3工序并行地有以形成第1开口状态并向喷嘴的外壁供给清洗水。
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公开(公告)号：CN102192997A
公开(公告)日：2011-09-21
申请号：CN201110053298.9
申请日：2011-03-04
Applicant: 株式会社东芝 , 东芝医疗系统株式会社
IPC: G01N35/10
CPC classification number: G01N35/10 , G01N35/1004 , G01N35/1011 , G01N2035/1025 , Y10T436/2575
Abstract: 提供在不使清洗槽的构成变得复杂的情况下能够利用比较短的时间使液体不易附着在探头的阶梯部自动分析装置。下降控制部使上述探头从使上述阶梯部位于液体的液面位置的上方的规定位置，下降至使阶梯部位于液面位置的下方以便进行行对液体的吸取或者利用液体的清洗的各工作的工作位置。从工作位置至阶梯部刚要到达液面位置时的位置，上升控制部使探头以高速上升，然后直至阶梯部通过液面位置为止，使探头以比高速慢的低速上升，从阶梯部刚通过了液面位置至至规定位置，使探头以比低速快的高速上升。
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