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公开(公告)号:CN1404191A
公开(公告)日:2003-03-19
申请号:CN02132157.4
申请日:2002-09-02
Applicant: 株式会社东芝
IPC: H01S5/00
CPC classification number: B82Y20/00 , H01S5/028 , H01S5/162 , H01S5/2004 , H01S5/209 , H01S5/2231 , H01S5/3211 , H01S5/3436 , H01S2301/185
Abstract: 本发明提供的半导体激光器装置,具有:第1导电型覆盖层(103)、设置在其上的活性层(107)、设置在其上面,在其上部对激光谐振方向平行延设脊的第2导电型覆盖层(108、110)和设置在上述脊两肋的电流抑制层(113);由上述电流抑制层限制的电流,通过上述脊的上面,注入上述活性层,上述第1导电型及第2导电型的覆盖层,由组成大致相同的半导体构成,上述第1导电型的覆盖层的层厚比上述第2导电型覆盖层包含了上述脊的层厚要大。