公开(公告)号：CN1288507C

公开(公告)日：2006-12-06

申请号：CN03136669.4

申请日：2003-05-23

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 佐佐木纪昭 ,  中杉哲郎

IPC: G03F7/20 ,  G03F1/16 ,  H01L21/027

CPC classification number: B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/70441 ,  G03F7/70475 ,  H01J37/3174 ,  H01J2237/31761 ,  H01J2237/31776

Abstract: 是用在XY方向上束的模糊量不同的CP方式的曝光装置，高精度地把图形复制到试样上。取入由在XY方向上的电子束的模糊量(S2)之差得到的形状修正以制作CP孔径掩模(S9)，用该CP孔径掩模在试样上使图形进行CP曝光。

公开(公告)号：CN1460896A

公开(公告)日：2003-12-10

申请号：CN03136669.4

申请日：2003-05-23

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 佐佐木纪昭 ,  中杉哲郎

IPC: G03F7/20 ,  G03F1/16 ,  H01L21/027

CPC classification number: B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/70441 ,  G03F7/70475 ,  H01J37/3174 ,  H01J2237/31761 ,  H01J2237/31776

Abstract: 是用在XY方向上束的模糊量不同的CP方式的曝光装置，高精度地把图形复制到试样上。取入由在XY方向上的电子束的模糊量(S2)之差得到的形状修正以制作CP孔径掩模(S9)，用该CP孔径掩模在试样上使图形进行CP曝光。