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发明公开
框架清洗机构以及框架清洗方法审中-实审

公开(公告)号：CN116895561A

公开(公告)日：2023-10-17

申请号：CN202310314838.7

申请日：2023-03-28

Applicant: 株式会社东京精密 , 松下知识产权经营株式会社

Inventor： 铃木朋浩 , 唐崎秀彦 , 佐伯英史 , 置田尚吾

IPC: H01L21/67 , H01L21/687 , H01L21/02 , B08B3/02

Abstract: 本发明提供能够在清洗框架时抑制清洗液的飞散的框架清洗机构以及框架清洗方法。对借助带(16)而固定有加工对象物(12)的状态下的环状的框架(18)进行清洗的框架清洗机构(100)具备：工作台(14)，其载置框架(18)；工作台旋转装置(10)，其使工作台(14)旋转；喷嘴(40)，其向工作台(14)排出清洗液；以及喷嘴摆动机构(30)，其在通过工作台旋转装置(10)而使工作台(14)旋转的期间使喷嘴(40)在框架(18)的宽度内摆动。

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