公开(公告)号：CN110133850B

公开(公告)日：2022-01-28

申请号：CN201910069910.8

申请日：2019-01-24

Applicant: 林清富

Inventor： 林清富 ,  蔡宗佑 ,  林峻宇

IPC: G02B27/01

Abstract: 本发明是抬头显示器、发光薄膜与其制法。所述发光薄膜，包含一种或多种发光材料以及基体。每个发光材料可吸收光子或电磁波后再重新辐射出光子或电磁波。基体用以消除发光材料形成薄膜后的光散射特性。较佳的，上述发光薄膜是以水溶液工艺所制成。本发明还揭露一种利用上述发光薄膜的抬头显示器。

公开(公告)号：CN110133850A

公开(公告)日：2019-08-16

申请号：CN201910069910.8

申请日：2019-01-24

Applicant: 林清富

Inventor： 林清富 ,  蔡宗佑 ,  林峻宇

IPC: G02B27/01

Abstract: 本发明是抬头显示器、发光薄膜与其制法。所述发光薄膜，包含一种或多种发光材料以及基体。每个发光材料可吸收光子或电磁波后再重新辐射出光子或电磁波。基体用以消除发光材料形成薄膜后的光散射特性。较佳的，上述发光薄膜是以水溶液工艺所制成。本发明还揭露一种利用上述发光薄膜的抬头显示器。

公开(公告)号：CN112349743A

公开(公告)日：2021-02-09

申请号：CN202010461347.1

申请日：2020-05-27

Applicant: 林清富

Inventor： 林清富 ,  林峻宇 ,  林仪姗 ,  黄容宽

IPC: H01L27/15 ,  H01L33/50

Abstract: 本发明实施例提供一种微发光二极管阵列与其制造方法，其包含基板，在基板上形成磊晶层，以及在磊晶层上形成薄膜转换层。可通过微影制程(lithography)定义像素，像素的尺寸可以非常小。此制造方法的特征是不需要巨量转移。