一种使用闪蒸技术制备层状石墨烯的方法

    公开(公告)号:CN114132920A

    公开(公告)日:2022-03-04

    申请号:CN202111665077.7

    申请日:2021-12-31

    IPC分类号: C01B32/184

    摘要: 本发明公开了一种使用闪蒸技术制备层状石墨烯的方法,本发明设计并制备得到了一种多层次纳米石墨烯结构,使用少量电力将非晶态导电碳粉转化为高价值材料的能力使世界更接近塑料中性。大规模使用闪光焦耳加热技术来处理非晶态导电碳粉,有可能减少塑料从摇篮到上循环使用过程中的温室气体排放;我们目前使用碳粉制备石墨烯,之后可以使用各种难以自然降解的塑料,和对生物环境有害的物质进行闪光焦耳加热技术处理,使之变废为宝重新投入生产生活中。

    一种制备硅纳米腔的方法
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114249325A

    公开(公告)日:2022-03-29

    申请号:CN202111580591.0

    申请日:2021-12-22

    摘要: 本发明公开了一种制备硅纳米腔的方法,本发明采用自组装方法制备的高度有序的聚苯乙烯小球阵列,放入等离子体清洗机中刻蚀,利用磁控溅射在聚苯乙烯小球阵列表面溅射50~200nm的金属,取下聚苯乙烯小球阵列,将纳米孔阵列放入盛有NaOH溶液的烧杯中刻蚀;本发明与块状结构相比,硅纳米结构在性能上有其优越性,研究显示,硅在紫外光范围内同样具有局域表面等离子激元效应,能达到类似贵金属(金、银)纳米结构的增强效果,在光电器件的制备,表面增强拉曼检测等方面效果显著。本发明制备得到了一种图案化硅纳米结构。该制备方法的创新性在于可以对硅纳米结构的尺寸、间隙等方面进行很方便的控制。进而研究其光电效应。