公开(公告)号：CN1685075A

公开(公告)日：2005-10-19

申请号：CN03822623.5

申请日：2003-09-22

Applicant: 本田技研工业株式会社

Inventor： 铃木贞次 ,  猿山将臣 ,  高垣雅志 ,  成田直树

IPC: C23C8/02 ,  C23C8/36 ,  F16G5/16

CPC classification number: C23C8/02 ,  C23C8/26 ,  C23G5/00 ,  F16G5/16

Abstract: 一种金属环的氮化处理方法及其装置，在有卤化合物气体存在的条件下对马氏体时效钢制金属环进行加热，除去金属环表面的氧化膜，以形成卤化合物膜。在真空或减压气氛下对金属环进行加热，除去卤化合物膜之后，在含有氨的气氛下，在450～500℃的处理温度下保持30～120分钟，来进行氮化处理。所述氮化处理具有以下工序，即，将所述金属环收装于加热炉中并升温到所述处理温度的工序；将含有氨50～90容量％、氧0.1～0.9容量％、以及余下部分由氮构成的第1混合气体导入到加热炉内，并保持在该处理温度，以在该金属环的表面形成氮化层的工序；当经过所述处理时间的1/3～1/2后，将炉内的气氛置换成含有氨0～25容量％、以及余下部分由氮构成的第2混合气体，直到经过该处理时间的余下时间为止而保持在该处理温度的工序。

公开(公告)号：CN100460552C

公开(公告)日：2009-02-11

申请号：CN03822623.5

申请日：2003-09-22

Applicant: 本田技研工业株式会社

Inventor： 铃木贞次 ,  猿山将臣 ,  高垣雅志 ,  成田直树

IPC: C23C8/26 ,  C23C8/02 ,  F16G5/16

CPC classification number: C23C8/02 ,  C23C8/26 ,  C23G5/00 ,  F16G5/16

Abstract: 一种金属环的氮化处理方法及其装置，在有卤化合物气体存在的条件下对马氏体时效钢制金属环进行加热，除去金属环表面的氧化膜，以形成卤化合物膜。在真空或减压气氛下对金属环进行加热，除去卤化合物膜之后，在含有氨的气氛下，在450～500℃的处理温度下保持30～120分钟，来进行氮化处理。所述氮化处理具有以下工序，即，将所述金属环收装于加热炉中并升温到所述处理温度的工序；将含有氨50～90容量%、氧0.1～0.9容量%、以及余下部分由氮构成的第1混合气体导入到加热炉内，并保持在该处理温度，以在该金属环的表面形成氮化层的工序；当经过所述处理时间的1/3～1/2后，将炉内的气氛置换成含有氨0～25容量%、以及余下部分由氮构成的第2混合气体，直到经过该处理时间的余下时间为止而保持在该处理温度的工序。