公开(公告)号：CN114174556A

公开(公告)日：2022-03-11

申请号：CN202080055504.7

申请日：2020-07-24

Applicant: 朗姆研究公司

Inventor： 普拉桑纳·库尔卡尼 ,  雷切尔·E·巴策尔 ,  泰德·谭 ,  维韦卡南丹·克里希纳斯瓦米 ,  布尼亚里特·文普拉瑟特 ,  肖恩·菲德勒

IPC: C23C16/458 ,  C23C16/455 ,  C23C16/509 ,  C23C16/52 ,  H01L21/68

Abstract: 一种方法包含：将装置布置于处理室中的基座的顶表面上。所述装置包含：环形构件；N个支撑构件；以及N个销，其中N为大于2的整数。N个支撑构件将所述环形构件支撑于与所述基座的所述顶表面平行的平面中且支撑于所述顶表面上方。所述N个销垂直于沿着环绕所述环形构件的圆周的平面而布置。所述N个销中的每一个包含能够与所述装置中的相应螺纹槽啮合的螺纹。所述N个销中的每一个包含指向所述基座的所述顶表面且能与所述基座的所述顶表面的周围接合的锥状端点。所述方法还包含：通过调整所述N个销中的一或多个而将所述环形构件的中心与所述基座的中心对准。

公开(公告)号：CN306929128S

公开(公告)日：2021-11-09

申请号：CN202130077791.9

申请日：2021-02-03

Applicant: 朗姆研究公司

Designer： 亚伦·布莱克·米勒 ,  雷切尔·E·巴策尔 ,  亚伦·德宾 ,  维韦卡南丹·克里希纳斯瓦米

Abstract: 1.本外观设计产品的名称：喷头(高密度孔型)。
2.本外观设计产品的用途：本外观设计产品用于将反应剂输送到用于生产硅晶片的沉积室或蚀刻室。
3.本外观设计产品的设计要点：在于本外观设计产品的形状、图案及其结合。
4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图。