公开(公告)号：CN114868237A

公开(公告)日：2022-08-05

申请号：CN202080087983.0

申请日：2020-12-16

Applicant: 朗姆研究公司

Inventor： 普拉桑纳·库尔卡尼 ,  邱华檀 ,  布莱恩·约瑟夫·威廉姆斯 ,  泰德·谭

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/677 ,  C23C16/44

Abstract: 一种系统包含多个主轴臂，其位于处理室中的多个站上方，以在所述站之间运送半导体衬底。在所述半导体衬底的处理期间，所述主轴臂驻留在所述处理室中。所述系统包括第一气体管线，其被设置在所述站下方，以供应清扫气体。所述系统包括第二气体管线，其从所述第一气体管线向上延伸，以在所述处理室中所述半导体衬底的处理期间将所述清扫气体供应至所述主轴臂。

公开(公告)号：CN114174556A

公开(公告)日：2022-03-11

申请号：CN202080055504.7

申请日：2020-07-24

Applicant: 朗姆研究公司

Inventor： 普拉桑纳·库尔卡尼 ,  雷切尔·E·巴策尔 ,  泰德·谭 ,  维韦卡南丹·克里希纳斯瓦米 ,  布尼亚里特·文普拉瑟特 ,  肖恩·菲德勒

IPC: C23C16/458 ,  C23C16/455 ,  C23C16/509 ,  C23C16/52 ,  H01L21/68

Abstract: 一种方法包含：将装置布置于处理室中的基座的顶表面上。所述装置包含：环形构件；N个支撑构件；以及N个销，其中N为大于2的整数。N个支撑构件将所述环形构件支撑于与所述基座的所述顶表面平行的平面中且支撑于所述顶表面上方。所述N个销垂直于沿着环绕所述环形构件的圆周的平面而布置。所述N个销中的每一个包含能够与所述装置中的相应螺纹槽啮合的螺纹。所述N个销中的每一个包含指向所述基座的所述顶表面且能与所述基座的所述顶表面的周围接合的锥状端点。所述方法还包含：通过调整所述N个销中的一或多个而将所述环形构件的中心与所述基座的中心对准。

公开(公告)号：CN118162297A

公开(公告)日：2024-06-11

申请号：CN202311688399.2

申请日：2023-12-08

Applicant: 朗姆研究公司

Inventor： 约翰·爱德华·布桑 ,  普拉桑纳·库尔卡尼 ,  雷切尔·E·巴策 ,  郭曈曈 ,  瓦姆希·克里希纳·奇蒂凯斯 ,  张净云 ,  龚波

IPC: B05B1/00

Abstract: 公开了用于半导体加工工具喷淋头或气体分配器的螺纹喷嘴插件。

公开(公告)号：CN222624896U

公开(公告)日：2025-03-18

申请号：CN202323353985.X

申请日：2023-12-08

Applicant: 朗姆研究公司

Inventor： 约翰·爱德华·布桑 ,  普拉桑纳·库尔卡尼 ,  雷切尔·E·巴策 ,  郭曈曈 ,  瓦姆希·克里希纳·奇蒂凯斯 ,  张净云 ,  龚波

IPC: B05B1/00

Abstract: 本实用新型公开了一种用于半导体加工工具喷淋头或气体分配器的插件装置。该插件装置包括头部，其中所述头部具有第一表面和平行于所述第一表面的第二表面；从所述第二表面延伸出的轴部，并且所述轴部具有螺纹第一子部分；以及气体分配孔穿过所述头部和所述轴部并且沿垂直于所述第二表面的方向延伸。

公开(公告)号：CN308930725S

公开(公告)日：2024-11-08

申请号：CN202330346712.9

申请日：2023-06-07

Applicant: 朗姆研究公司

Designer： 约翰·爱德华·巴斯安 ,  普拉桑纳·库尔卡尼 ,  雷切尔·E·巴策尔

Abstract: 1.本外观设计产品的名称：螺纹喷嘴插件的头部和杆部。
2.本外观设计产品的用途：螺纹喷嘴插件的头部和杆部用于半导体衬底或晶片处理所用的半导体处理工具中，并能拧入该工具的喷头下侧且用于使处理气体流向半导体晶片。
3.本外观设计产品的设计要点：在于产品的形状、图案及其结合。
4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图。
5.其他需要说明的情形其他说明：实线表示要求保护的特征；虚线表示不要求保护的特征;点划虚线指示产品保护和非保护区域间的边界线。