公开(公告)号：CN113891960A

公开(公告)日：2022-01-04

申请号：CN202080036300.9

申请日：2020-09-03

Applicant: 昭和电工株式会社

Inventor： 宫石壮 ,  大久保雅裕 ,  吉村真幸 ,  坂根航 ,  田中铁兵 ,  中村冴子 ,  山木沙织

IPC: C23C28/00 ,  C23C14/06 ,  C23C14/16 ,  C23C14/24 ,  C23C14/35 ,  C25D13/02 ,  C25D13/22 ,  C23C14/02

Abstract: 提供耐蚀性被膜即使经受热履历也难以从基材剥离的耐蚀性构件。一种耐蚀性构件，具备：金属制的基材(10)、形成于基材(10)的表面的耐蚀性被膜(30)以及形成于基材(10)与耐蚀性被膜(30)之间的缓冲层(20)。基材(10)含有：在基材(10)含有的元素之中质量含有率最高的元素即主元素、以及质量含有率为1质量％以下的元素即微量元素。耐蚀性被膜(30)由选自氟化镁、氟化铝和氧化铝中的至少一种构成。缓冲层(20)含有与微量元素种类相同的元素，缓冲层(20)中所含有的与微量元素种类相同的元素在采用能量色散型X射线分析时得到的含有率为2质量％以上且99质量％以下。

公开(公告)号：CN113924381A

公开(公告)日：2022-01-11

申请号：CN202080040248.4

申请日：2020-09-03

Applicant: 昭和电工株式会社

Inventor： 宫石壮 ,  大久保雅裕 ,  吉村真幸 ,  坂根航 ,  田中铁兵 ,  中村冴子 ,  山木沙织

IPC: C23C14/06 ,  C23C14/02 ,  C23C14/24

Abstract: 提供即使受到热过程耐蚀性被膜也难以从基材剥离的耐蚀性构件。一种耐蚀性构件，具备金属制的基材(10)和形成于基材(10)的表面的耐蚀性被膜(30)。耐蚀性被膜(30)是从基材(10)侧起层叠含有氟化镁的氟化镁层(31)和含有氟化铝的氟化铝层(32)而成的被膜。氟化铝层(32)是从氟化镁层(31)侧起层叠含有的氟化铝为结晶质的第一结晶质层(32A)、含有的氟化铝为非晶质的非晶质层(32B)和含有的氟化铝为结晶质的第二结晶质层(32C)而成的层。第一结晶质层(32A)和第二结晶质层(32C)是在电子衍射像中观察到衍射斑点的层，非晶质层(32B)是在电子衍射像中观察到光晕图案的层。

公开(公告)号：CN115698383A

公开(公告)日：2023-02-03

申请号：CN202180043515.8

申请日：2021-06-21

Applicant: 昭和电工株式会社

Inventor： 宫石壮 ,  大久保雅裕 ,  吉村真幸 ,  坂根航 ,  田中铁兵 ,  中村冴子 ,  今井卓也 ,  樱井哲朗 ,  召田小雪

IPC: C23C26/00 ,  C23C28/04

Abstract: 提供即使经受热过程耐蚀性被膜也难以从基材剥离的耐蚀性构件。耐蚀性构件具备由铝或铝合金构成的基材(10)和形成于基材(10)的表面的耐蚀性被膜(20)。耐蚀性被膜(20)含有空间群归属于R‑3c的氢氧氟化铝AlF3‑x(OH)x，所述化学式中的x为0.05以上且1.00以下。

公开(公告)号：CN113924382A

公开(公告)日：2022-01-11

申请号：CN202180003549.4

申请日：2021-02-24

Applicant: 昭和电工株式会社

Inventor： 宫石壮 ,  大久保雅裕 ,  吉村真幸 ,  坂根航 ,  田中铁兵 ,  中村冴子 ,  山木沙织

IPC: C23C14/24 ,  C23C14/06 ,  C23C14/58 ,  G01N23/207

Abstract: 提供耐蚀性被膜即使经受热履历也难以从基材剥离的耐蚀性构件。一种耐蚀性构件，具备金属制基材(10)和形成于基材(10)的表面的耐蚀性被膜(30)。耐蚀性被膜(30)是从基材(10)侧依次层叠氟化镁层(31)和氟化铝层(32)而得到的。氟化铝层(32)具有所含有的氟化铝为晶质的第一晶质区域(32A)和第二晶质区域(32B)。第一晶质区域(32A)是在通过照射束径为10nm以上且20nm以下的电子束而得到的电子束衍射像中观察到具有规则性的成列衍射斑的区域。第二晶质区域(32B)是在通过照射上述电子束而得到的电子束衍射像中观察到多个衍射斑但未观察到具有规则性的成列衍射斑的区域。