公开(公告)号：CN113454466A

公开(公告)日：2021-09-28

申请号：CN202080015383.3

申请日：2020-03-03

Applicant: 昭和电工株式会社

Inventor： 加藤刚 ,  富田浩幸 ,  南拓也 ,  西泽尚平 ,  岛津嘉友 ,  黑川刚平 ,  室伏克己 ,  福本直也

IPC: G01Q60/42

Abstract: 本探针的制造方法是在表面具有被覆层(104)的探针(101)的制造方法，采用气相法对于顶端部(103a)尖锐的基材(103)的表面形成被覆层(104)。

公开(公告)号：CN101855309A

公开(公告)日：2010-10-06

申请号：CN200880115691.2

申请日：2008-11-12

Applicant: 昭和电工株式会社

Inventor： 佐藤孝志 ,  高桥浩 ,  岛津嘉友 ,  伊藤祐司

IPC: C09G1/02 ,  H01L21/321

CPC classification number: C09G1/02 ,  C09K3/1463 ,  C23F3/04 ,  H01L21/3212

Abstract: 本发明提供了用于抛光铜或铜合金的抛光组合物，包含：氧化剂(A)；至少一种选自氨基酸、具有8个或更少碳原子的羧酸、或无机酸的酸(B)；具有含8个或更多碳原子的烷基的磺酸(C)；具有含8个或更多碳原子的烷基的脂肪酸(D)；和下述通式(1)所示的N-取代的咪唑(E)：[化学式1]在式(1)中，Ra、Rb和Rc代表H或具有1至4个碳原子的烷基，且Rd代表选自苄基、乙烯基、具有1至4个碳原子的烷基、和这些基团的一部分H已被OH或NH2替代而得的基团的基团。

公开(公告)号：CN101496143B

公开(公告)日：2011-04-06

申请号：CN200780027880.X

申请日：2007-07-26

Applicant: 昭和电工株式会社

Inventor： 佐藤孝志 ,  高桥浩 ,  岛津嘉友 ,  伊藤祐司

IPC: H01L21/304 ,  B24B37/00 ,  C09K3/14

CPC classification number: C09K3/1463 ,  C09G1/02 ,  C23F3/06 ,  C23F11/149 ,  H01L21/3212

Abstract: 本发明提供一种同时具有高平坦性和布线金属的表面腐蚀降低作用的研磨组合物。此类研磨组合物含有下述物质：(A)氧化剂；(B)选自氨基酸、碳原子数为8以下的羧酸、和无机酸中的至少一种酸；(C)浓度为0.01质量％以上，并且烷基碳原子数为8个以上的磺酸；(D)浓度为0.001质量％以上，并且烷基碳原子数为8个以上的脂肪酸；和(E)选自吡啶羰基化合物、非离子性水溶性聚合物、2-吡咯烷酮、N-甲基吡咯烷酮、1，3-二甲基-2-咪唑啉酮、芦竹碱、腺嘌呤、N，N’-二异丙基乙二胺、N，N’-二(2-羟基乙基)乙二胺、N，N’-二苄基乙二胺、N，N’-二苯基乙二胺中的至少一种化合物。

公开(公告)号：CN101496143A

公开(公告)日：2009-07-29

申请号：CN200780027880.X

申请日：2007-07-26

Applicant: 昭和电工株式会社

Inventor： 佐藤孝志 ,  高桥浩 ,  岛津嘉友 ,  伊藤祐司

IPC: H01L21/304 ,  B24B37/00 ,  C09K3/14

CPC classification number: C09K3/1463 ,  C09G1/02 ,  C23F3/06 ,  C23F11/149 ,  H01L21/3212

Abstract: 本发明提供一种同时具有高平坦性和布线金属的表面腐蚀降低作用的研磨组合物。此类研磨组合物含有下述物质：(A)氧化剂；(B)选自氨基酸、碳原子数为8以下的羧酸、和无机酸中的至少一种酸；(C)浓度为0.01质量％以上，并且烷基碳原子数为8个以上的磺酸；(D)浓度为0.001质量％以上，并且烷基碳原子数为8个以上的脂肪酸；和(E)选自吡啶羰基化合物、非离子性水溶性聚合物、2－吡咯烷酮、N－甲基吡咯烷酮、1，3－二甲基－2－咪唑啉酮、芦竹碱、腺嘌呤、N，N’－二异丙基乙二胺、N，N’－二(2－羟基乙基)乙二胺、N，N’－二苄基乙二胺、N，N’－二苯基乙二胺中的至少一种化合物。

公开(公告)号：CN101855309B

公开(公告)日：2013-06-12

申请号：CN200880115691.2

申请日：2008-11-12

Applicant: 昭和电工株式会社

Inventor： 佐藤孝志 ,  高桥浩 ,  岛津嘉友 ,  伊藤祐司

IPC: H01L21/321

CPC classification number: C09G1/02 ,  C09K3/1463 ,  C23F3/04 ,  H01L21/3212

Abstract: 本发明提供了用于抛光铜或铜合金的抛光组合物，包含：氧化剂(A)；至少一种选自氨基酸、具有8个或更少碳原子的羧酸、或无机酸的酸(B)；具有含8个或更多碳原子的烷基的磺酸(C)；具有含8个或更多碳原子的烷基的脂肪酸(D)；和下述通式(1)所示的N-取代的咪唑(E)：化学式1：在式(1)中，Ra、Rb和Rc代表H或具有1至4个碳原子的烷基，且Rd代表选自苄基、乙烯基、具有1至4个碳原子的烷基、和这些基团的一部分H已被OH或NH2替代而得的基团的基团。

公开(公告)号：CN101443890A

公开(公告)日：2009-05-27

申请号：CN200780017711.8

申请日：2007-05-14

Applicant: 昭和电工株式会社

Inventor： 佐藤孝志 ,  高桥浩 ,  岛津嘉友 ,  伊藤祐司

IPC: H01L21/304 ,  C09K3/14 ,  B24B37/00

CPC classification number: H01L21/3212 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1454 ,  C23F3/04 ,  H01L21/7684

Abstract: 本发明提供一种可控制凹陷的研磨组合物的制造方法、使用该研磨组合物的基板研磨方法、以及基板制造方法。在研磨组合物的制造方法中，通过将组成不同的2种预备组合物(A)和(B)改变混合比例来混合从而制造多种研磨组合物，作为预备组合物(A)使用含有(a)磨粒、(b)氧化剂、(c)选自氨基酸、有机酸、无机酸中的1种或2种以上的酸、和(d)表面活性剂的组合物，作为预备组合物(B)使用含有(a)磨粒和(b)氧化剂的组合物。预备组合物(B)还含有上述酸(c)、和表面活性剂(d)，此时，在预备组合物(A)和(B)中至少(a)、(b)、(c)、(d)中的一种以上成分的浓度不同。