公开(公告)号：CN1795700A

公开(公告)日：2006-06-28

申请号：CN200480014768.9

申请日：2004-05-25

Applicant: 星电株式会社 ,  东京毅力科创株式会社

Inventor： 大林义昭 ,  安田护 ,  佐伯真一 ,  驹井正嗣 ,  加川健一

IPC: H04R19/01

CPC classification number: H04R19/005

Abstract: 本发明提供一种以必要的厚度形成振动膜的同时使振动膜的变形得到抑制的声音检测机构。该声音检测机构是在基板(A)上具有形成电容器的一对电极，该一对电极之中的一个电极是形成有相当于声孔的通孔(Ca)的背面电极(C)，另一个电极是振动膜(B)的声音检测机构，以基板(A)上所形成的作为振动膜(B)的膜体为基准，在基板(A)的基材一侧具有硅氮化膜(303)。

公开(公告)号：CN1823551A

公开(公告)日：2006-08-23

申请号：CN200480020494.4

申请日：2004-07-14

Applicant: 星电株式会社 ,  东京毅力科创株式会社

Inventor： 大林义昭 ,  安田护 ,  佐伯真一 ,  驹井正嗣 ,  加川健一

IPC: H04R19/04

CPC classification number: H04R19/016 ,  H04R19/04

Abstract: 构成能够在衬底上以简单的工艺制作振动片及背电极的声音检测机构。在衬底A的表面侧形成成为通孔Ba的声孔，在该表面侧的声孔的部位层叠第二保护膜406、牺牲层D(407)和金属膜408，从衬底A的背面侧通过进行到达声孔的深度的蚀刻来形成声音开口E，然后从衬底A的背面侧经由声孔，进行蚀刻来除去牺牲层407，在由金属膜408构成的振动片C与衬底A之间形成空隙区域F，且形成通孔Ba，将蚀刻后残留的牺牲层407作为保持背电极B与振动片C之间的距离的隔垫D。

公开(公告)号：CN1795699A

公开(公告)日：2006-06-28

申请号：CN200480014761.7

申请日：2004-05-25

Applicant: 星电株式会社 ,  东京毅力科创株式会社

Inventor： 大林义昭 ,  安田护 ,  佐伯真一 ,  驹井正嗣 ,  加川健一

IPC: H04R19/01

CPC classification number: H04R19/005 ,  H04R19/04 ,  H04R2499/11

Abstract: 本发明提供一种通过对厚度进行控制使得振动膜能够以需要的厚度形成并能够抑制振动膜的变形的声音检测机构。该声音检测机构是在基板(A)上具有形成电容器的一对电极，该一对电极之中的一个电极是形成有相当于声孔的通孔(Ca)的背面电极(C)，另一个电极是振动膜(B)的声音检测机构，在基板(A)上设置有振动膜(B)，背面电极(C)设置在由基板(A)支承在与该振动膜(B)隔着空隙(F)对置的位置上的状态下，该背面电极(C)由5μm～20μm厚度的多晶硅形成。