研磨剂和研磨方法
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102985508A

    公开(公告)日:2013-03-20

    申请号:CN201180033927.X

    申请日:2011-06-28

    Inventor: 吉田有衣子

    CPC classification number: B24B37/044 C09K3/1409 H01L21/02024 H01L33/007

    Abstract: 本发明涉及用于研磨研磨对象物(1)的被研磨面的研磨剂(5),其含有:平均一次粒径为5~20nm的第一氧化硅微粒、平均一次粒径为40~110nm的第二氧化硅微粒和水,且所述第一氧化硅微粒在所述第一氧化硅微粒和第二氧化硅微粒的总量中占的比例为0.7~30质量%。

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