公开(公告)号：CN1670259A

公开(公告)日：2005-09-21

申请号：CN200510003975.0

申请日：2005-01-14

Applicant: 旭电化工业株式会社

Inventor： 小林宏充 ,  仁藤浩久 ,  川俣大雅

IPC: C25D3/02 ,  H01L21/321

CPC classification number: C25D3/02 ,  C23C18/16 ,  C23C18/31 ,  C25D3/32

Abstract: 本发明提供一种电镀浴添加剂和使用所述添加剂的电镀浴，该电镀浴含有羟基链烷磺酸，并且即使将其应用于电子部件如半导体器件时，也不会出现诸如电路与电路的绝缘变得有缺陷之类的问题。电镀浴添加剂含有作为主要组分的羟基链烷磺酸，且具有的碱金属相对于所述链烷磺酸的含量低于0.05质量％。电镀浴在其中结合有所述的添加剂。

公开(公告)号：CN1503057A

公开(公告)日：2004-06-09

申请号：CN200310120468.6

申请日：2003-10-30

Applicant: 旭电化工业株式会社

Inventor： 保坂将毅 ,  川俣大雅

IPC: G03F7/00 ,  B01D19/04 ,  B01F17/00

Abstract: 本发明提供在使用显影液的光敏抗蚀剂的显影工序中，对显影液的发泡消泡性优良且在显影液中产生的浮渣的分散性也优良的抗蚀剂显影液用消泡分散剂。一种光敏抗蚀剂显影液用消泡分散剂，其特征在于，含有相对于碳数15以上的高级脂肪酸100质量份，碳数6～14的中级脂肪酸的比率是5～300质量份的混合脂肪酸和脂族三元醇反应的部分脂肪酸酯。