公开(公告)号：CN1805925A

公开(公告)日：2006-07-19

申请号：CN200580000485.3

申请日：2005-04-21

Applicant: 旭电化工业株式会社

Inventor： 小林宏充 ,  仁藤浩久

IPC: C07C303/44 ,  B01J41/04 ,  C07C309/07

CPC classification number: C07C303/44 ,  B01J41/04 ,  C07C309/08

Abstract: 本发明提供不需要除去氯离子等多余的工序、而且可以减低离子交换体(包括柱)的损伤、重复使用离子交换体、能够延长离子交换体的使用寿命、降低制造成本的酸(A)的水溶液的纯化方法，它是通过使含有酸(A)和作为杂质的酸(B)的被处理水溶液通过填充了对酸(A)和酸(B)具有阴离子的吸附选择性的阴离子交换树脂(C)的离子交换塔来进行的酸(A)的水溶液的纯化方法，其特征在于，在通过比上述被处理水溶液的浓度低的酸(A)的水溶液后通过上述被处理水溶液。

公开(公告)号：CN1742077A

公开(公告)日：2006-03-01

申请号：CN03825954.0

申请日：2003-04-11

Applicant: 旭电化工业株式会社

Inventor： 小林宏充 ,  仁藤浩久 ,  清水正晶 ,  北村广次

IPC: C11D7/26 ,  G03F7/30 ,  G03F7/32

CPC classification number: C11D7/261 ,  C11D7/263 ,  C11D7/5022 ,  G03F7/322

Abstract: 本发明涉及一种碱显影装置用洗涤剂组合物，其由含有以通式(1)R－O－(AO)n－H(式中，R表示碳原子数2－6的直链或者支链的烷基或者苯基，A表示相同或者不同的碳原子数为2－4的亚烷基，n为0≤n≤20的数)表示的1种或者2种以上的一羟基化合物为必须成分的酸性水溶液构成。根据本发明，提供有效除去称之为浮渣的难溶性附着物的碱显影装置用洗涤剂组合物。

公开(公告)号：CN1670259A

公开(公告)日：2005-09-21

申请号：CN200510003975.0

申请日：2005-01-14

Applicant: 旭电化工业株式会社

Inventor： 小林宏充 ,  仁藤浩久 ,  川俣大雅

IPC: C25D3/02 ,  H01L21/321

CPC classification number: C25D3/02 ,  C23C18/16 ,  C23C18/31 ,  C25D3/32

Abstract: 本发明提供一种电镀浴添加剂和使用所述添加剂的电镀浴，该电镀浴含有羟基链烷磺酸，并且即使将其应用于电子部件如半导体器件时，也不会出现诸如电路与电路的绝缘变得有缺陷之类的问题。电镀浴添加剂含有作为主要组分的羟基链烷磺酸，且具有的碱金属相对于所述链烷磺酸的含量低于0.05质量％。电镀浴在其中结合有所述的添加剂。