公开(公告)号：CN104212997B

公开(公告)日：2017-06-09

申请号：CN201410239491.5

申请日：2014-05-30

Applicant: 日立金属株式会社

Inventor： 村田英夫 ,  上滩真史 ,  佐藤达也

IPC: C22C9/05 ,  C23C14/34 ,  C23C14/14

Abstract: 本发明提供能够应对使高清晰的平面显示元件的显示品质提升所需的、电极膜或布线膜中低反射的新要求的Cu‑Mn合金膜和用于形成它的Cu‑Mn合金溅射靶材以及Cu‑Mn合金膜的成膜方法。该Cu‑Mn合金膜如下：将金属成分总体视为100原子％时，金属成分含有32～45原子％的Mn、余量由Cu和不可避免的杂质组成，所述Cu‑Mn合金膜的可见光反射率为30％以下，适合为平面显示元件用的电极膜或布线膜。

公开(公告)号：CN104212997A

公开(公告)日：2014-12-17

申请号：CN201410239491.5

申请日：2014-05-30

Applicant: 日立金属株式会社

Inventor： 村田英夫 ,  上滩真史 ,  佐藤达也

IPC: C22C9/05 ,  C23C14/34 ,  C23C14/14

Abstract: 本发明提供能够应对使高清晰的平面显示元件的显示品质提升所需的、电极膜或布线膜中低反射的新要求的Cu-Mn合金膜和用于形成它的Cu-Mn合金溅射靶材以及Cu-Mn合金膜的成膜方法。该Cu-Mn合金膜如下：将金属成分总体视为100原子％时，金属成分含有32～45原子％的Mn、余量由Cu和不可避免的杂质组成，所述Cu-Mn合金膜的可见光反射率为30％以下，适合为平面显示元件用的电极膜或布线膜。