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公开(公告)号：CN100456063C
公开(公告)日：2009-01-28
申请号：CN02810961.9
申请日：2002-05-30
Applicant: 日立化成工业株式会社
CPC classification number: G02B6/4204 , G02B6/132 , G02B6/138 , G02B6/30 , G02B6/4202 , G02B2006/121
Abstract: 本发明提供树脂制的光学元件的制造方法，该方法在使用具备凹部的基片的光学元件的制造过程中，能够容易地去除凹部内的覆膜。该光学元件具有基片(1)、配置在基片(1)上的部分区域的树脂制的光波导结构层(10)、在未配置光波导结构层(10)的区域形成的凹部(21)。光波导结构层(10)含有光波导(4)和包层。在基片(1)和光波导结构层(10)之间配置连接层，在光波导(4)的下部区域中的连接层的膜厚分布范围是在最小膜厚大于等于30埃、最大膜厚小于等于200埃的范围。
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公开(公告)号：CN100346185C
公开(公告)日：2007-10-31
申请号：CN02826117.8
申请日：2002-12-26
Applicant: 日立化成工业株式会社
IPC: G02B6/13
CPC classification number: G02B6/138 , G02B6/1221
Abstract: 本发明提供一种光波导器件的制造方法及光波导器件。光波导器件的制造方法，具有以下工序：在具备下部包层的基片上形成第1树脂膜的第1工序，将所述的第1树脂膜形成光波导形状图案以形成芯层的第2工序，在所述下部包层和所述芯层表面、通过旋转涂布法涂布第2树脂膜的材料溶液并使其干燥以使干燥膜厚从下部包层的上面起为芯层的厚度的3～10倍、从而形成第2树脂膜的第3工序，在所述第3工序的涂布作业中，设有抑制第2树脂膜的材料溶液的溶剂的蒸发速度的手段。
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公开(公告)号：CN1639599A
公开(公告)日：2005-07-13
申请号：CN02826117.8
申请日：2002-12-26
Applicant: 日立化成工业株式会社
IPC: G02B6/13
CPC classification number: G02B6/138 , G02B6/1221
Abstract: 本发明提供一种光波导器件的制造方法及光波导器件。光波导器件的制造方法，具有以下工序：在具备下部包层的基片上形成第1树脂膜的第1工序，将所述的第1树脂膜形成光波导形状图案以形成芯层的第2工序，在所述下部包层和所述芯层表面、通过旋转涂布法涂布第2树脂膜的材料溶液并使其干燥以使干燥膜厚从下部包层的上面其为芯层的厚度的3～10倍、从而形成第2树脂膜的第3工序，在所述第3工序中，设有抑制第2树脂膜的材料溶液的溶剂的蒸发速度的手段。
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公开(公告)号：CN1513122A
公开(公告)日：2004-07-14
申请号：CN02810961.9
申请日：2002-05-30
Applicant: 日立化成工业株式会社
CPC classification number: G02B6/4204 , G02B6/132 , G02B6/138 , G02B6/30 , G02B6/4202 , G02B2006/121
Abstract: 本发明提供树脂制的光学元件的制造方法，该方法在使用具备凹部的基片的光学元件的制造过程中，能够容易地去除凹部内的覆膜。该光学元件具有基片(1)、配置在基片(1)上的部分区域的树脂制的光波导结构层(10)、在未配置光波导结构层(10)的区域形成的凹部(21)。光波导结构层(10)含有光波导(4)和包层。在基片(1)和光波导结构层(10)之间配置连接层，在光波导(4)的下部区域中的连接层的膜厚分布范围是在最小膜厚大于等于30埃、最大膜厚小于等于200埃的范围。
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