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公开(公告)号:CN104871431B
公开(公告)日:2018-04-10
申请号:CN201380066077.2
申请日:2013-12-25
Applicant: 日本碍子株式会社
IPC: H03H3/08
CPC classification number: H01L41/332 , H01L21/3212 , H01L41/107 , H01L41/312 , H01L41/337 , H03H3/08 , H03H9/02574 , Y10T428/21
Abstract: 本发明的复合基板的制作方法包含:工序(a):将压电基板和支撑基板接合形成直径在4英寸以上的粘合基板,通过镜面研磨粘合基板的压电基板侧,将所述压电基板的厚度研磨至3μm以下;工序(b):制作所述镜面研磨后的压电基板的厚度分布数据;工序(c):基于所述厚度分布数据,利用离子束加工机对所述压电基板进行加工获得复合基板,其中厚度在3μm以下的所述压电基板在整个平面上厚度的最大值和最小值的差在60nm以下,且所述压电基板显示出通过X射线衍射获得的摇摆曲线的半峰宽为100弧秒以下的结晶性。
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公开(公告)号:CN104871431A
公开(公告)日:2015-08-26
申请号:CN201380066077.2
申请日:2013-12-25
Applicant: 日本碍子株式会社
IPC: H03H3/08
CPC classification number: H01L41/332 , H01L21/3212 , H01L41/107 , H01L41/312 , H01L41/337 , H03H3/08 , H03H9/02574 , Y10T428/21
Abstract: 本发明的复合基板的制作方法包含:工序(a):将压电基板和支撑基板接合形成直径在4英寸以上的粘合基板,通过镜面研磨粘合基板的压电基板侧,将所述压电基板的厚度研磨至3μm以下;工序(b):制作所述镜面研磨后的压电基板的厚度分布数据;工序(c):基于所述厚度分布数据,利用离子束加工机对所述压电基板进行加工获得复合基板,其中厚度在3μm以下的所述压电基板在整个平面上厚度的最大值和最小值的差在60nm以下,且所述压电基板显示出通过X射线衍射获得的摇摆曲线的半峰宽为100弧秒以下的结晶性。
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