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公开(公告)号：CN1221810A
公开(公告)日：1999-07-07
申请号：CN98125072.6
申请日：1998-11-30
Applicant: 日本电气株式会社
IPC: C23G5/032 , H01L21/302
CPC classification number: C11D7/265 , C11D11/0047 , H01L21/02071 , H01L21/28061 , H01L29/4941 , Y10S438/906
Abstract: 对其上形成有构图的金属层的衬底进行清洗的方法,包括使用具有螯合作用的清洗液从衬底上除去金属杂质的步骤。清洗液为包括具有螯合作用的羧酸的水溶液。水溶液含有水溶性羧酸、铵基羧酸和具有氨基的羧酸中的一个。水溶性羧酸为乙酸、蚁酸、柠檬酸和乙二酸中的一个。构图的金属层由过渡金属和过滤金属的化合物中的一个与Si(硅)、N(氮)和O(氧)中的一个制成。
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