公开(公告)号：CN110337431B

公开(公告)日：2022-08-26

申请号：CN201880014211.7

申请日：2018-02-22

Applicant: 日本瑞翁株式会社

Inventor： 菅原充 ,  桐木智史 ,  江尻和弘

IPC: C07D207/404 ,  C07D209/48 ,  C07D209/66 ,  C07D209/72 ,  C07D279/36 ,  C08K5/34 ,  C08K5/46 ,  C08L21/00 ,  C08L33/00 ,  C08L101/00

Abstract: 本发明提供一种由下述通式(1)表示的二芳基胺系化合物。上述通式(1)中，A1和A2各自独立地表示能够具有取代基的碳原子数为6～18的亚芳基，A3和A4各自独立地表示能够具有取代基的具有环状酰亚胺结构的有机基团。

公开(公告)号：CN112189002A

公开(公告)日：2021-01-05

申请号：CN201980034550.6

申请日：2019-07-16

Applicant: 日本瑞翁株式会社

Inventor： 菅原充 ,  铃木克昌 ,  太田圭祐 ,  叶内政信

IPC: C07C17/383 ,  C07C23/08 ,  C07C29/80 ,  C07C35/06 ,  C07C41/58 ,  C07C43/184 ,  C07C45/82 ,  C07C49/297 ,  C11D7/50

Abstract: 本发明提供一种通过包含蒸馏器1的蒸馏设备10来蒸馏溶剂从而得到纯化溶剂的溶剂的纯化方法。构成蒸馏设备10的蒸馏器1、冷凝器2、容器3和其它构成构件的接液面和接气面的表面的中心平均粗糙度(Ra)为1μm以下。以及使用蒸馏设备10，以气体流速为100mm/秒以下蒸馏溶剂的溶剂的纯化方法。

公开(公告)号：CN112236216A

公开(公告)日：2021-01-15

申请号：CN201980037745.6

申请日：2019-07-25

Applicant: 日本瑞翁株式会社

Inventor： 菅原充 ,  太田圭祐 ,  叶内政信

IPC: B01D61/14 ,  B01D71/36 ,  C07C23/08 ,  C07C29/74 ,  H01L21/304

Abstract: 本发明提供一种用于减少氟系溶剂含有物中包含的微粒的纯化方法、以及微粒被减少了的含氟系溶剂纯化物。氟系溶剂含有物的纯化方法包含使用由包含氟原子的材料形成的过滤器过滤至少包含氟系溶剂的氟系溶剂含有物的过滤工序，过滤氟系溶剂含有物时的上述过滤器的单位有效过滤面积的通液速度小于0.2mL/分钟·cm2。

公开(公告)号：CN110337431A

公开(公告)日：2019-10-15

申请号：CN201880014211.7

申请日：2018-02-22

Applicant: 日本瑞翁株式会社

Inventor： 菅原充 ,  桐木智史 ,  江尻和弘

IPC: C07D207/404 ,  C07D209/48 ,  C07D209/66 ,  C07D209/72 ,  C07D279/36 ,  C08K5/34 ,  C08K5/46 ,  C08L21/00 ,  C08L33/00 ,  C08L101/00

Abstract: 本发明提供一种由下述通式(1)表示的二芳基胺系化合物。上述通式(1)中，A1和A2各自独立地表示能够具有取代基的碳原子数为6～18的亚芳基，A3和A4各自独立地表示能够具有取代基的具有环状酰亚胺结构的有机基团。

公开(公告)号：CN112955421A

公开(公告)日：2021-06-11

申请号：CN202080005869.9

申请日：2020-02-25

Applicant: 日本瑞翁株式会社

Inventor： 太田圭祐 ,  菅原充

IPC: C07C23/08 ,  C07C29/76 ,  C07C31/125 ,  C07C17/38

Abstract: 本发明提供一种抑制微粒数的增加并将有机溶剂脱水的方法。本发明的有机溶剂的脱水方法包括准备脱水用气体的工序(A)、和使工序(A)所准备的脱水用气体与有机溶剂接触的工序(B)，工序(A)包括：使露点为‑30℃以下的气体通过气体过滤器来得到脱水用气体的工序(a1)、或将通过气体过滤器的气体的露点调节至‑30℃以下来得到脱水用气体的工序(a2)。

公开(公告)号：CN109071908A

公开(公告)日：2018-12-21

申请号：CN201780019174.4

申请日：2017-03-22

Applicant: 日本瑞翁株式会社

Inventor： 菅原充 ,  桐木智史 ,  坂本圭 ,  江尻和弘

IPC: C08L33/00 ,  C08K5/20 ,  C07C233/36 ,  C07C233/78 ,  C07C235/50 ,  C07C255/57

Abstract: 本发明提供一种含有丙烯酸聚合物和下述通式(1)所示的多官能性有机化合物的丙烯酸聚合物组合物。(上述通式(1)中，R1、R2各自独立地为氢原子或碳原子数为1～20的烷基，R3、R4各自独立地为氢原子、能够具有取代基的碳原子数为1～20的烷基或能够具有取代基的碳原子数为6～10的芳基，k为1以上的整数。)

公开(公告)号：CN108779314A

公开(公告)日：2018-11-09

申请号：CN201780019136.9

申请日：2017-03-22

Applicant: 日本瑞翁株式会社

Inventor： 菅原充 ,  桐木智史 ,  坂本圭 ,  江尻和弘

IPC: C08L33/00 ,  C08K5/21

Abstract: 本发明提供一种含有丙烯酸聚合物和下述通式(1)所示的多官能性有机化合物的丙烯酸聚合物组合物。(上述通式(1)中，R1、R2各自独立地为氢原子或碳原子数为1～20的烷基，R3、R4各自独立地为氢原子、能够具有取代基的碳原子数为1～20的烷基或能够具有取代基的碳原子数为6～10的芳基，k为1以上的整数。)

公开(公告)号：CN106132914A

公开(公告)日：2016-11-16

申请号：CN201580015359.9

申请日：2015-03-25

Applicant: 日本瑞翁株式会社 ,  国立大学法人东京大学

Inventor： 中野景太 ,  菅原充 ,  小林修

IPC: C07C41/06 ,  C07C43/184 ,  C07B61/00

CPC classification number: C07C41/06 ,  C07C2601/08 ,  C07C43/184

Abstract: 本发明为一种在酸性沸石的存在下使可具有取代基的环戊烯与由式(2)：R1OH(式中，R1表示可具有取代基的碳原子数为1～10的烷基、或可具有取代基的碳原子数为3～8的环烷基。)表示的醇化合物反应的由式(1)：R1‑O‑R2(式中，R1表示与上述相同的含义，R2表示可具有取代基的环戊基。)表示的环戊基烷基醚化合物的制造方法。根据本发明，可提供即使是液相也能够反应、并且即使在增大了原料供给的情况下也能够以高的反应效率制造环戊基烷基醚的方法。

公开(公告)号：CN1327492C

公开(公告)日：2007-07-18

申请号：CN02826800.8

申请日：2002-10-31

Applicant: 日本瑞翁株式会社

Inventor： 菅原充 ,  山田俊郎 ,  杉本达也 ,  田中公章

IPC: H01L21/3065

Abstract: 含有碳原子数5或6的链状全氟炔烃、优选全氟-2-戊炔的等离子体反应用气体。该等离子体反应用气体适用于通过干式蚀刻形成微细图案、通过CVD形成薄膜和灰化。上述等离子体反应用气体可通过使二氢氟烷烃化合物或一氢氟烯烃化合物与碱性化合物接触合成。

公开(公告)号：CN111278578A

公开(公告)日：2020-06-12

申请号：CN201880069532.7

申请日：2018-11-02

Applicant: 日本瑞翁株式会社

Inventor： 安藤敬二 ,  菅原充

IPC: B08B3/14 ,  B01D17/04 ,  B08B3/08 ,  C11D7/26 ,  C11D7/30 ,  C11D7/50 ,  C11D11/00

Abstract: 本发明提供一种能够有效地分离污垢成分的清洗溶剂组合物的再生方法。其为溶解有污垢成分的清洗溶剂组合物的再生方法，清洗溶剂组合物含有氟系溶剂和易燃性有机溶剂，该清洗溶剂组合物的再生方法包含以下工序：工序(A)，使污垢成分从溶解有污垢成分的清洗溶剂组合物中析出，得到包含析出的污垢成分和清洗溶剂组合物的混合物；工序(B)，使混合物与污垢成分亲和材料接触；和工序(C)，从与污垢成分亲和材料接触过的混合物中除去污垢成分得到再生后的清洗溶剂组合物。